掃描電鏡/聚焦離子束電鏡系統是一種用於物理學、材料科學、能源科學技術領域的分析儀器,於2012年10月22日啟用。
基本介紹
- 中文名:掃描電鏡/聚焦離子束電鏡系統
- 產地:捷克
- 學科領域:物理學、材料科學、能源科學技術
- 啟用日期:2012年10月22日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
掃描電鏡/聚焦離子束電鏡系統是一種用於物理學、材料科學、能源科學技術領域的分析儀器,於2012年10月22日啟用。
聚焦離子束-掃描電鏡雙束系統是一種用於地球科學領域的分析儀器,於2015年12月14日啟用。技術指標 1.SEM: 加速電壓0.1 - 30 kV,2.5 nm@1 kV ;2.FIB:離子束解析度5 nm (30 kV, 1 pA),加速電壓0.5 - 30 kV,電流1 pA~50 nA。主要功能 形貌觀察和製備透射電鏡超薄片。
聚焦離子束掃描電鏡是一種用於數學領域的分析儀器,於2012年11月1日啟用。技術指標 場發射(FE-SEM)部分: #11; 解析度:高真空:1.2nm at 30kV#11; 放大倍數:2x~1,000,000x #11; 真空系統:高真空:樣品室<9x10-3Pa,槍體真空<1x10-6Pa #11; 加速電壓:0.5kV to 30KV#11; 電子束電流:2pA~...
聚焦離子束/掃描電鏡雙束工作站是一種用於力學、化學、機械工程、化學工程領域的分析儀器,於2016年8月29日啟用。技術指標 電子束:解析度:≤1.0nm@15KV,≤1.9nm@1kV放大倍率:12x~1000kx最低加速電壓:≤0.1kV無漏磁電磁物鏡+靜電透鏡複合物鏡結構,可對磁性材料近距離高分辨觀察;能實現高解析度觀察下的邊...
聚焦離子束雙束系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2014年03月31日啟用。技術指標 電子束:解析度: ≤1.0 nm@15KV ,≤1.9 nm@1kV; 放大倍率:12x ~ 1000kx;離子束:解析度: ≤ 2.5nm@30kV; 放大倍率:300x ~ 500kx.。主要功能 雙束系統中場發射掃描電鏡主要用於觀察、分析和記錄材料的微觀...
超級電鏡聚焦離子束制樣系統是一種用於材料科學、冶金工程技術領域的分析儀器,於2015年4月14日啟用。技術指標 場發射電子槍鏡筒,高束流離子鏡筒,二次電子檢測器,一體化束流檢測器,全自動光闌系統,空氣壓縮機,冷卻循環系統,一體化納米機械手,Win7系統工作站。主要功能 靈活的電子束真空配置,用於檢查僅高真空...
聚焦離子束電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2014年6月1日啟用。技術指標 電子束解析度(Electron beam resolution):0.9 nm@15kV,1.4nm@1kV 離子成像解析度(Ion beam resolution):4nm@30kV。主要功能 Elstar Schottky 場發射 SEM 技術和優異性能 FEI的Tomahawk FIB,具備低至500 V的卓越...
場發射電子束/聚焦離子束雙束工作站是一種用於電子與通信技術領域的醫學科研儀器,於2015年12月16日啟用。技術指標 Electron beam: ≤1.0nm@15V,≤1.9nm@1KV;Ion Beam:≤2.5nm@30kV。主要功能 雙束系統中場發射掃描電鏡主要用於觀察、分析和記錄材料的微觀形貌,聚焦離子束用來對樣品進行在微納米尺度下的切割...
聚焦離子束)自動化序列樣本銑削和SEM(掃描電子顯微鏡)成像功能,創建二維序列圖像,進而開展三維容積重建,可實現XY軸 0.6-1.5nm、Z軸2.5nm解析度的大容量(微米至毫米級)超微結構擬合,揭示生物樣本內部複雜結構和網路的三維精細信息;利用FIB對冷凍生物樣本和材料的優質切割性能,結合掃描電鏡冷凍傳輸系統,成為...
聚焦離子束雙束電子顯微鏡是一種用於地球科學領域的分析儀器,於2016年10月1日啟用。技術
目前商用系統的離子束為液相金屬離子源(Liquid Metal Ion Source, LMIS),金屬材質為鎵(Gallium, Ga),因為鎵元素具有低熔點、低蒸氣壓、及良好的抗氧化力;典型的離子束顯微鏡包括液相金屬離子源、電透鏡、掃描電極、二次粒子偵測器、5-6軸向移動的試片基座、真空系統、抗振動和磁場的裝置、電子控制臺、和計算機...
自主設計的世界首套原位超快像差糾正低能電子/光電子/掃描隧道顯微鏡聯合系統、世界上最先進的FEI Titan ChemiSTEM球差校正透射電子顯微鏡、CAMECA LEAP4000HR三維原子探針、國內第一套三維電子背散射衍射系統,還有多台透射電鏡、掃描電鏡和聚焦離子束顯微加工系統等高端分析表征設備。
場發射掃描電鏡廠商納克微束 致力於為材料、半導體、生物醫療等研究和套用科學領域提供綜合顯微成像解決方案,專業研發高性能及定製化專業用途顯微成像系統的企業。2022年初,納克微束髮布國內首款擁有自主智慧財產權的可搭載聚焦離子束(FIB)模組的雙束場發射電鏡FE-1050系列,率先將國產掃描電鏡水平代入低壓高分辨力(<2...
SEM掃描電鏡 SEM掃描電鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2017年4月1日啟用。技術指標 電子放大倍數:150,000倍,電子光學解析度:≤5nm樣品倉要求:最大樣品尺寸不小於:45mm X 45mm X 45mm。主要功能 微觀形貌觀測。
利用電子束在樣品表面掃描激發出各種物理信號,通過相應的檢測器來檢測這些信號,再將其轉換為視頻信號來調製圖像採集系統的亮度。由於信號的強度與樣品表面的形貌、成分有對應關係,在圖像採集系統上就相應獲得該面積樣品表面的形貌或成分的一副圖象。同時,利用電磁透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸離子柱,在離子柱頂端外加...
雙束場發射掃描電子顯微鏡系統是一種用於生物學、材料科學、化學工程領域的分析儀器,於2011年12月27日啟用。技術指標 1、場發射槍 2、FIB最大束流20nA,SEM解析度1.1nm@20kv,FIB解析度2.5nm@30kv 3、具有Pt氣體沉積系統。主要功能 FIB/SEM雙束系統是樣品成像、改性、加工和實效分析的有效工具,可提供三維高...
場發射雙束掃描電鏡是一種用於生物學領域的核儀器,於2015年4月12日啟用。技術指標 1.解析度 在最適佳工作距離下: 0.9nm @ 15kV 1.4nm @ 1kV 在束交點(電子束+離子束)的工作距離下: 1.0nm @ 15kV, 束交點工作距離 4mm 5nm FIB @ 30kV,束交點工作距離 16.5mm 2.加速電壓範圍: SEM: 30kV...
作為科學儀器的全球供應商之一,TESCAN主要設計、研發和製造各類儀器並鑽研,在不同領域的套用。TESCAN的產品和解決方案在全球微納米技術領域,創造了掃描電鏡與拉曼共聚焦顯微鏡一體化技術、雙束電鏡與飛行時間-二次離子質譜儀一體化技術以及氙等離子聚焦離子束技術 。企業服務 TESCAN中國——泰思肯貿易(上海)有限公司,...
納米通用形發生器是一種用於化學領域的電子測量儀器,於2012年12月31日啟用。技術指標 可配備到掃描電鏡(SEM)、聚焦離子束系統(FIB)、掃描探針顯微鏡(SPM)上構建成納米加工設備,進行納米圖形加工和納米微結構製造。主要功能 高速數位訊號處理器(DSP);高精度圖形數據採集器;帶有溫控的16位數模轉換器(D/A);...
Quanta™ 掃描電子顯微鏡 Quanta 掃描電子顯微鏡是一款高性能的多功能電子顯微鏡,提供三種操作模式(高真空、低真空和 環掃 (ESEM)),它是所有掃描電鏡中能看最多樣品類型的一款掃描電鏡.。 所有 Quanta SEM 系統均配置分析系統,如能譜儀,X射線波譜儀和電子背散射衍射分析系統。 此外,場發射 (FEG) 系統配備...
常見的光學顯微鏡如大視場的光學或螢光顯微鏡、雷射共聚焦顯微鏡、定位顯微鏡、低溫冷凍光鏡等都可以和電子顯微鏡如掃描電鏡、透射電鏡、聚焦離子束/掃描電鏡雙系統、低溫冷凍透射/掃描電鏡等來配合使用。在利用電子顯微鏡成像之前,多先利用光學顯微鏡來觀察樣品的形態結構,最常用的是螢光顯微鏡。例如光學顯微鏡可提供的...
雙束系統中場發射掃描電鏡主要用於觀察、分析和記錄材料的微觀形貌,聚焦離子束用來對樣品進行在微納米尺度下的圖形沉積、切割、刻蝕、透射樣品製備及原子探針針尖加工等工作。In SEM/FIB crossbeam system, SEM is utilized in observation of surface morphologies, and FIB is used in the micro-processing including ...
掃描電子顯微鏡/聚焦離子束雙束系統 Nova200 NanoLab 46 納米加工技術實驗室 雙面對準接觸式紫外光刻機 MA6 47 納米檢測實驗室 鎢燈絲掃描電鏡 Hitachi S-3400N 48 納米檢測實驗室 物理性能分析儀 PPMS-9 49 納米檢測實驗室 螢光/磷光/發光分光光度計 LS55 50 納米中心所級服務中心 圓二色光譜儀器 J-810...
刻蝕設備:反應離子刻蝕機(RIE);感應耦合電漿刻蝕系統(ICP);等離子去膠機(PS);生長設備:原子層沉積系統(ALD);熱蒸發(TE);電子束蒸發(EB);磁控濺射(MS);化學氣相沉積(CVD)薄膜生長系統;以及電漿增強化學氣相沉積系統(PECVD)。測量設備:掃描探針顯微鏡(AFM);雙探針掃描電鏡原位測量系統(DB-...
納米切削材料去除機理和極限加工能力研究是推動納米切削加工技術發展的關鍵,項目擬開展基於聚焦能量束(離子、電子、光子)技術的金剛石刀具納米切削機理及其製造完整性的研究。建立聚焦離子束/掃描電鏡(FIB/SEM)雙束系統線上納米切削及切削力線上檢測平台,圍繞納米切削材料去除機理、極限切削能力、單晶矽納米切削中金剛石...
《微米-納米級超高壓礦物的電子顯微學研究》是陳晶為項目負責人,北京大學為依託單位的面上項目。科研成果 項目摘要 利用最先進的科學儀器場發射透射電鏡(FTEM)、場發射掃描電鏡(FSEM)、聚焦離子束(FIB)和雷射拉曼(Raman),對大別-蘇魯超高壓變質帶和中國大陸科學鑽孔(CCSD)中的超高壓高壓變質岩石進行深入細緻的...
《疑源類化石圖鑑》是國內外首部對新元古代和顯生宙地質時期的570餘個疑源類和藻類化石屬種以及4個早一中寒武世“隱孢子”進行種征譯釋和系統總結的學術著作。作者及其研究團隊利用光學顯微鏡、掃描電鏡、透射電鏡和聚焦離子束掃描顯微鏡等儀器及相應的技術方法,對20世紀70年代以來國內外核心刊物和重要出版物刊出的微體...
本項目採用掃描電鏡與聚焦離子束耦合系統和美國阿貢國家實驗室的離子加速器與透射電鏡在線上設施分別採用低能聚焦Ga+離子束和400keV Kr+離子束實時原位研究了鎢的微觀結構在時間與空間上詳實的演化行為。針對單一能量離子輻照導致位移損傷與離子濃度沿深度呈高斯分布的不足,採用了階梯能量He+離子輻照,獲得了位移損傷和氦...
常用的儀器有透射電鏡(TEM)、掃描電鏡(SEM)、電子探針(EPMA)等。前兩種電鏡以成像放大倍數大、解析度高為主要特點,尤其掃描電鏡以聚焦景深大、形貌立體感強為特色,它們是研究礦物或物質形貌、超顯微結構、變形結構(如錯位)的理想工具。而電子探針是用以定量分析微區化學成分的儀器。X射線物相分析 對結晶物質的物相...
電子束光刻機 ;聚焦離子束 ;冷場掃描電鏡;紫外光刻機;納米壓印 ;無掩模光刻機 ;分步投影光刻機 ;反應離子刻蝕機 ;蒸發HF刻蝕;深矽刻蝕;金屬刻蝕機;金屬ICP刻蝕機松下;濕法刻蝕系統;電漿去膠機;電漿增強化學氣相沉積;微波等離子化學氣相沉積;快速熱處理;氧化爐及;離子束鍍膜機 ;原子層沉積...