電子-離子雙射束是一種用於地球科學領域的分析儀器，於2017年7月24日啟用。
基本介紹
- 中文名：電子-離子雙射束
- 產地：美國
- 學科領域：地球科學
- 啟用日期：2017年7月24日
- 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
技術指標,主要功能,
技術指標
聚焦離子束顯微鏡(Focused Ion beam, FIB)的系統是利用電透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸的顯微切割儀器，當離子束打到樣品表面上的時候，會產生一些二次離子信號，二次電子信號等，FIB通過對這些信號進行採集和處理形成顯微圖像。目前商用系統的離子束為液相金屬離子源(Liquid Metal Ion Source, LMIS)，金屬材質為鎵(Gallium, Ga)，因為鎵元素具有低熔點、低蒸氣壓、及良好的抗氧化力；典型的離子束顯微鏡包括液相金屬離子源、電透鏡、掃描電極、二次粒子偵測器、5-6軸向移動的試片基座、真空系統、抗振動和磁場的裝置、電子控制臺、和計算機等硬設備，外加電場(Suppressor)於液相金屬離子源 可使液態鎵形成細小尖端，再加上負電場(Extractor) 牽引尖端的鎵，而導出鎵離子束，在一般工作電壓下，尖端電流密度約為1埃10-8 Amp/cm2，以電透鏡聚焦，經過一連串變化孔徑 (Automatic Variable Aperture, AVA)可決定離子束的大小，再經過二次聚焦至試片表面，利用物理碰撞來達到切割之目的。
主要功能
1. 定點切割利用離子的物理碰撞來達到切割之目的。 2.二次電子成像和背散射成像。 3. 採用離子束/電子束，對珍貴樣品進行納米級加工，製作投射電鏡（TEM）樣品。
