掃描形貌測量顯微鏡是一種用於材料科學、機械工程領域的工藝試驗儀器,於2013年12月1日啟用。
基本介紹
- 中文名:掃描形貌測量顯微鏡
- 產地:日本
- 學科領域:材料科學、機械工程
- 啟用日期:2013年12月1日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備 > 機加工工藝實驗設備
掃描形貌測量顯微鏡是一種用於材料科學、機械工程領域的工藝試驗儀器,於2013年12月1日啟用。
掃描形貌測量顯微鏡是一種用於材料科學、機械工程領域的工藝試驗儀器,於2013年12月1日啟用。技術指標最大倍率20000。1主要功能表面形貌測量。1...
掃描電子顯微鏡(scanning electron microscope,SEM)是一種用於高解析度微區形貌分析的大型精密儀器。具有景深大、解析度高,成像直觀、立體感強、放大倍數範圍寬以及待測樣品可在三維空間內進行旋轉和傾斜等特點。另外具有可測樣品種類豐富,...
台式掃描電子顯微鏡(Desktop Scanning Electron Microscope)是一種體積小巧,可安放在實驗檯面上操作的電子顯微鏡。其原理和傳統(落地式)掃描電子顯微鏡相同。部件包括:電子發射、電磁透鏡、信號探測、真空系統、計算機控制系統。台式掃描電子...
針尖與樣品之間的作用力與距離有強烈的依賴關係,所以在掃描過程中利用反饋迴路保持針尖與樣品之間的作用力恆定,即保持為懸臂的形變數不變,針尖就會隨樣品表面的起伏上下移動,記錄針尖上下運動的軌跡即可得到樣品表面形貌的信息。這種工作模式...
檢測顯微鏡(Detection microscope)是用於檢測各項材料微觀形貌以及對各材料需要檢測的部位進行微觀測量的一款顯微鏡。市場的檢測顯微鏡主要是將普通光學顯微鏡配置高清晰攝像頭、專用測量軟體HX-2000以及為方便被觀測材料移動的專用移動工作檯。隨...
從而得到的真實彩色超景深3D圖像;利用408 nm雷射把物體的微觀細節掃描出來,從而可以得到比一般光學顯微鏡更清晰的圖像和可以得到更高的解析度;該顯微鏡可以在X-Y-Z實現10到20納米的重複測量精度,顯示解析度可達1 nm。
台式掃描顯微鏡是一種用於生物學、農學、林學領域的分析儀器,於2014年12月31日啟用。技術指標 *2.1放大倍率:內置集成彩色光學顯微鏡,電子放大 80-100,000倍 *2.2背散射電子探測器解析度: 優於17nm 2.3加速電壓: 5kV—10kV...
場發射掃描電子顯微鏡(FESEM)是電子顯微鏡的一種。該儀器具有超高解析度,能做各種固態樣品表面形貌的二次電子像、反射電子象觀察及圖像處理。該儀器利用二次電子成像原理,在鍍膜或不鍍膜的基礎上,低電壓下通過在納米尺度上觀察生物樣品...
數位化掃描電子顯微鏡 數位化掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學、化學工程領域的分析儀器,於2008年11月13日啟用。技術指標 解析度4.5nm,放大倍數5-250000倍。主要功能 對材料進行顯微形貌觀測,對微區元素進行分析。
它可以進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素麵掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑑定,晶粒尺寸,晶體、晶粒取向測量。
最大單一方向掃描範圍:100mm;最小測量高度:0.01μm;最大測量高度:22.5mm;最大測量範圍:10000mm2;最大測量形貌長度:100mm;最小可重複性:0.001μm;最小測量粗糙度(Ra):0.03μm;最小測量粗糙度(Sa):0.015μ...
掃描電子式顯微鏡是日本生產的一種電子光學儀器,於2007年5月1日啟用。技術指標 理論放大倍數5~300000X解析度3.0nm。服務內容 1.電子零件顯微形貌觀察;2.薄膜厚度及微粒尺寸量測;3.錫須觀察分析;4.合金層IMC形貌觀察。
掃面探針顯微鏡是一種用於化學、生物學、材料科學、能源科學技術領域的分析儀器,於2014年9月26日啟用。技術指標 掃描器解析度:XY:0.2nm,Z:0.2?;整機噪音:≤0.2 ?;掃描器精度< span=>±0.5%;低干涉小範圍掃描器噪音...
3D形貌顯微鏡是一種用於材料科學、機械工程領域的分析儀器,於2017年06月15日啟用。技術指標 放大倍數:光學20-2000X,電動變焦;物理景深:最大可達到34mm;載物台:電動載物台,X/Y軸行程40mm,Z軸測量範圍35mm;觀測角度:調整範圍...
針孔共聚焦光學系統 光接收元件:光電倍增器、16 bit 感應 掃描方式 (常規測量時及圖像連線時):自動上下限設定功能 高速光量最佳化功能(AAG Ⅱ)反射光量不足補充功能(雙掃描)。主要功能 用於表面粗糙度、表面形貌等的測量。
同時具有開環控制和閉環控制的功能; 6. 控制軟體與常規光探測器和光譜探測儀器兼容,並具有聯用的升級功能,能夠實現對選定光波段進行近場掃描成像和形貌成像分析; 7. 視頻顯微鏡:正置顯微鏡帶CCD成像; 8. 倒置顯微鏡:用於透射信號...
可持續穩定得到原子級圖像。用原子力顯微鏡模式對雲母樣品進行5-10nm範圍的掃描成像,測量圖像中相鄰雲母原子的間距值;要求測量值在:0.5-0.55nm範圍內。STM模式下對HOPG樣品進行10nm範圍內的掃描正確成像。主要功能 掃描物質形貌,掃描...
小型掃描電子顯微鏡是一種用於化學工程領域的分析儀器,於2018年11月7日啟用。技術指標 1.加速電壓是:0.3~20 kV連續可調; 2.二次電子解析度是:4.0 nm@20 kV,15 nm@1 kV背散射電子解析度優於:5.0 nm@20 kV(低真空):...
掃描電子顯微鏡3是一種用於化學、生物學、農學、環境科學技術及資源科學技術學科領域的電子光學儀器,於2016年8月15日啟用。技術指標 解析度:3.0 nm @ 30 KV (SE 與W)、4.0 nm @ 30 KV (VP with BSD );加速電壓:0.2-...
電子掃描探針顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2003年12月1日啟用。技術指標 x,y方向解析度高於0.01nm, 縱向解析度高於0.05nm. 可以做原子分辨的成像。主要功能 測試納米材料樣品形貌、粒度及表面粗糙度等。
電子顯微鏡按結構和用途可分為透射式電子顯微鏡、掃描式電子顯微鏡、反射式電子顯微鏡和發射式電子顯微鏡等。透射式電子顯微鏡常用於觀察那些用普通顯微鏡所不能分辨的細微物質結構;掃描式電子顯微鏡主要用於觀察固體表面的形貌,也能與X射線...
生物型掃描探針顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2013年05月15日啟用。技術指標 x,y方向解析度高於0.01nm, 縱向解析度高於0.05nm. 可以做原子分辨的成像。主要功能 測試納米材料樣品形貌、粒度及表面粗糙度等。
數位化電子掃描顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2013年3月30日啟用。技術指標 解析度4.5nm(烏絲陰極),放大倍數15-250000倍,電子槍:發叉式烏絲陰極。主要功能 觀測固體試樣表面的微觀形貌;組合分析功能有:X射線...