基本介紹
- 中文名:吸收邊
- 外文名:absorption edges
- 套用學科:光學分析
- 含義:X射線吸收中吸收係數的突變
- 套用理論:X射線吸收近邊結構理論
- 套用範圍:x射線吸收光譜
吸收邊介紹
計算方法
結構理論
量子力學證明,描述各元素X射線標識譜規律的莫塞萊定律只是一種近似的規律。但它曾對確定原子序數,預言當時還未發現的元素,研究等電子離子序列光譜和原子結構都有過重要作用。
吸收邊是指激發樣品中的元素、產生螢光X射線所需的最小能量。... 在X射線吸收譜中,吸收邊之上60eV以內的低能區的譜出現強的吸收特性,稱之為近邊吸收結構(...
物質的X射線吸收譜中從吸收閾值處的吸收邊到吸收邊以上約50eV之間的譜結構。是研究物質的局域結構和局域電子特性的有力手段。 套用學科 材料科學技術(一級學科),...
本徵吸收是指在價帶和導帶之間電子的躍遷產生與自由原子的線吸收譜相當的晶體吸收譜,它決定著半導體的光學性質.本徵吸收最明顯的特點是具有基本的吸收邊(吸收係數...
一般在X射線吸收截面曲線的某些能量位置上出現吸收跳躍,稱之為吸收突躍,或稱吸收邊,對應於某個殼層的電子電離能的位置。但在數據分析過程中,對吸收突躍的定義並不...
擴展X射線吸收精細結構,是指元素的X射線吸收係數在吸收邊高能側30~1000電子伏之間的振盪;由吸收了X光的原子與鄰近配位原子相互作用產生,並將傅立葉交換用到擴展X...
光學帶隙(optical band gap) 非晶態半導體的本徵吸收邊附近的吸收曲線通常分為三個區域。...
當半導體重摻雜時,費米能級進入導帶,本徵光吸收邊向高能方向移動的現象稱為Burstein-Moss效應。通常發生在半導體重摻雜時。...
但是當使用的X射線波長與待測樣品中某一元素的吸收邊靠近時,就不遵從上述定律,也即FHKL≠FHKL。這是由電子的反常散射造成的, 利用這一現象可以解決待測物的...
弗朗茲一凱爾迪什效應(英語:Franz-Keldysh effect)是指在強電場(一般在百伏電壓)作用下,導致半導體吸收邊形狀的改變,及引起其折射率相應變化的現象。它是德國物理學...
迄今為止的物質結構探測技術一般都是以晶體—長程有序結構的衍射現象為基礎,但XAFS(X-Ray AbsorptionFine Structure,X射線吸收精細結構譜)是例外。...
法蘭茲-卡爾迪西效應(英語:Franz-Keldysh effect)是指在強電場(一般在百伏電壓)作用下,導致半導體吸收邊形狀的改變,及引起其折射率相應變化的現象。它是德國物理學...
對波動方程來說,這就要求在人工邊界上不產生人工(非物理)反射。因而這類邊界條件稱為無反射邊界條件或吸收邊界條件;2)所形成的微分方程初邊值問題是適定的。 [...
在量子阱結構中,在內建極化電場的作用下,半導體的能帶發生傾斜,電子-空穴對發生空間分離、波函式交疊量減少,引起發光效率下降、發光峰(吸收邊)紅移的現象,稱為...
紅邊位移是指紅光區外葉綠素吸收減少部位(<0.7um )到近紅外高反射肩(>0.7um)之間,健康植物的光諧回響陡然增加(亮度增加約10倍)的這一窄條帶區。研究發現,...
[1] 本書描述了電磁場有限元方法的最新發展,包括有限元-吸收邊界條件方法、有限元-邊界積分方法、有限元-本徵函式展開方法等混合法,同時給出了開區域電磁散射和輻...
在圖7a的情形,導帶底和價帶頂都位於k=0,所以吸收邊的電子躍遷符合k不變的要求,這樣的半導體稱為直接帶隙半導體。在圖7b的情形,導帶底不在k=0,電子從價帶...
X-ray Absorption Fine Structure,即X射線吸收精細結構(XAFS)譜是用於描繪局部結構最強有力的工具之一。在此技術中,我們將X射線能量調整至與所研究的元素中內電子...
Luo等從催化劑固載化和實際運用出發,通過聚合物沉積的方法製得了白鎢礦型單斜晶系的BiVO4薄膜,光吸收邊為400~500 nm,在可見光區具有良好的回響能力,B iVO4 ...
在富鋰(Li2O:NbO3=58.5/41.5)熔體中生長了質量良好的近化學計量比鈮酸鋰單晶,其紫外吸收邊位置為308nm,居里溫度超過了1200℃。測量了其Z向晶片的壓電係數如,...
6.4.2UPML吸收邊界條件 習題 第7章均勻平面波在不同媒質分界面的反射與折射 7.1平面波垂直入射到理想導體表面 7.2平面波垂直入射到理想介質間的分界面 7.3...
砷化鎵光纖測溫系統,在光纖末端加入砷化鎵晶體,當光源發出多重波長的光照射到砷化鎵晶體時,該晶體會依據溫度吸收不同波長的入射光,同時將剩餘沒有吸收的波長的光反射...