X光電子能譜是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年6月16日啟用。
基本介紹
- 中文名:X光電子能譜
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2015年6月16日
- 所屬類別:分析儀器 > X射線儀器 > X射線能譜儀
X光電子能譜是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年6月16日啟用。
X光電子能譜是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年6月16日啟用。技術指標 電子槍發射的電子最高能量≥1000 eV,能量解析度>0.5%。 微聚焦單色化XPS,高精度鑑別化學態; 全自動操作,快速準確地分析表面化學表征; 高靈敏度化學成像; 高解析度深度剖析 ;進行包括絕緣樣品在內各種樣品的小面積XPS分析;使用...
X射線光電子能譜學(英文:X-ray photoelectron spectroscopy,簡稱XPS)XPS主要套用是測定電子的結合能來鑑定樣品表面的化學性質及組成的分析,其特點在光電子來自表面10nm以內,僅帶出表面的化學信息,具有分析區域小、分析深度淺和不破壞樣品的特點,廣泛套用於金屬、無機材料、催化劑、聚合物、塗層材料礦石等各種材料...
X射線光電子能譜分析(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)是用X射線去輻射樣品,使原子或分子的內層電子或價電子受激發射出來。被光子激發出來的電子稱為光電子,可以測量光電子的能量,以光電子的動能為橫坐標,相對強度(脈衝/s)為縱坐標可做出光電子能譜圖,從而獲得待測物組成。定義及原理 X射線光電子能譜...
被光子激發出來的電子稱為光電子。可以測量光電子的能量,以光電子的動能為橫坐標,相對強度(脈衝/s)為縱坐標可做出光電子能譜圖。從而獲得試樣有關信息。X射線光電子能譜因對化學分析最有用,因此被稱為化學分析用電子能譜(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis).系統組件 一台商業製造的XPS系統的主要...
X-射線光電子能譜儀,是一種表面分析技術,主要用來表征材料表面元素及其化學狀態。其基本原理是使用X-射線,如Al Ka =1486.6eV,與樣品表面相互作用,利用光電效應,激發樣品表面發射光電子,利用能量分析器,測量光電子動能(K.E),根據B.E=hv-K.E-W.F,進而得到激發電子的結合能(B.E)。主要用途 XPS:...
根據光源的不同,光電子能譜可分為:1、紫外光電子能譜UPS(Ultroviolet Photoelectron Spectrometer);2、X射線光電子能譜XPS(X-Ray Photoelectron Spectrometer )3、俄歇電子能譜AES(Auger Electron Spectrometer)。X射線光電子能譜法:用來(定性)分析原子在化合物中的價態,和化合形態。儀器簡單,光譜解析簡單。...
X-光電子能譜儀是一種用於物理學、化學、生物學、材料科學領域的分析儀器,於2011年12月28日啟用。技術指標 1、真空度:≤4X10-6Pa;2、能量範圍:0-1200電子伏特;3、X-ray類型:錐形雙陽極Mg或Al的Kа射線;4、最佳能量解析度:<0.8電子伏特;5、靈敏度:700,000CPS;6、分析器:低通或高通(杜邦型)...
x射線光電子譜是一種用於數學領域的分析儀器,於2008年12月1日啟用。技術指標 真空度5×10^(-8) PaX射線源射線能量:1486.6 eV (Al Kα line), 1253.6 eV (Mg Kα line);能量半高寬:0.85 eV (Al Kα line), 0.70 eV (Mg Kα line)。電子源電子能量:100 eV – 5000 eV;能量半高寬 :...
X射線電子能譜 X射線電子能譜是一種用於化學領域的分析儀器,於2005年10月25日啟用。技術指標 空間解析度(um):500um,能量解析度小於0.06,靈敏度:100000。主要功能 XPS,UPS。
電子能譜分析方法是20世紀70年代以來迅速發展起來的表面成分分析方法。這種方法是對用光子(電磁輻射)或粒子(電子、離子、原子等)照射或轟擊材料(原子、分子或固體)產生的電子能譜進行分析的方法。其中俄歇電子能譜、光電子能譜、X射線光電子能譜和紫外光電子能譜等對樣品表面的淺層元素的組成能給出比較精確的...
X射線光電子能譜法 X射線光電子能譜法是2016年公布的化學名詞。定義 超高真空條件下,用電子能譜儀測量X射線光子輻照樣品表面時所發射的光電子及俄歇電子能量分布,以此測定周期表中除氫、氦以外所有元素及其化學態的一種非破壞性表面分析方法。出處 《化學名詞》。
因此,內殼層電子的能量與原子間的化學鍵及其化學環境有關。由此可見,內殼層電子的能譜分析是研究化學鍵和進行化學分析的有效手段。X射線也能激發出外殼層電子,對檢測輕重元素都相當有效。用X射線作為激發源的電子能譜,稱為X光電子能譜。此外,用紫外光作為激發源的稱為紫外光電子能譜,它特別適用於外層電子的...
X射線光電子能譜分析儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年3月31日啟用。技術指標 Ultimate energy resolution on Ag FWHM≤0.5 eV;XPS energy resolution on PET FWHM≤0.85eV。主要功能 主要用於對樣品表面進行元素種類測定、同種元素不同化學狀態定性及定量分析等方面的表征。XPS的工作原理是用光子能量...
《X射線光電子能譜分析方法通則(GB/T 19500-2004)》提出單位:全國微束分析標準化委員會。本標準歸口單位:全國微束分析標準化委員會。本標準負責起草單位:北京大學化學與分子工程學院。本標準主要起草人:黃惠忠。本標準參加起草人:曹立禮、趙良仲、王亦曼、吳文輝、沈電洪、朱永法、劉芬、於廣華、吳正龍。前言 1...
多功能X射線光電子能譜儀是一種用於物理學、生物學、基礎醫學、臨床醫學領域的分析儀器,於2018年1月22日啟用。技術指標 1. 分析室真空度:5×10-10 mbar 2. 最佳能量解析度:0.43eV 3. 最小空間解析度:1μm4. Ag的3d5/2峰半峰寬為1eV時電子計數率可達4Mcps5. 檢測器: 雙探測器設計,分別採用多...
近常壓x射線光電子能譜是一種用於物理學、化學領域的分析儀器,於2017年12月1日啟用。技術指標 EnviroESCA是一台能原位監測樣品表面性質動態變化的XPS儀器。其能量分析器的半徑為150mm,型號為SPECS PHOIBOS EP,採用單色化的鋁Kα作為光源,型號為SPECS μ-FOCUS 600,光斑尺寸約3μm。主要功能 主要功能: 1、...
X射線光電子能譜小面積分析法(small area analysis by X-ray photoelectron spectroscopy)是2016年全國科學技術名詞審定委員會公布的化學名詞。定義
化學分析電子譜微探針X光電子能譜儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2002年4月8日啟用。技術指標 X-ray光源:Al陽極靶,掃描式單色器; 束斑:10 μm~200 μm,一般100 μm~200 μm; 能量分析儀:180o半球形分析器+16通道檢測器, 基礎真空:5×10?1? torr 檢測範圍:原子序數大於He的所有元素; 檢測...
原位X射線光電子能譜儀 原位X射線光電子能譜儀是一種用於物理學、化學、材料科學領域的分析儀器,於2012年11月26日啟用。技術指標 單色化Al KX射線源/He電漿光源,能量分析器能量解析度≤2meV.能量測量範圍: 0.5eV~1500eV,原位有機薄膜蒸鍍系統,原位STM。主要功能 分析材料的物質組成以及能級結構。
發布。2016年1月1日,《X光電子能譜中荷電控制和荷電基準技術標準指南》實施。起草工作 主要起草單位:信息產業專用材料質量監督檢驗中心、中國電子技術標準化研究院、蘇州晶瑞化學有限公司、天津中環領先材料技術有限公司。主要起草人:李雨辰、何秀坤、劉筠、劉兵、李翔。
掃描微區X射線光電子能譜儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2012年5月3日啟用。技術指標 可用於測定聚合物、金屬及無機非金屬材料表面微區(微米級)界面性質的表征及整體較大尺寸構件的大面積結構性能。主要功能 樣品表面元素組成和價態分析;對樣品表面選定的區域可以進行線,面的XPS掃描,得到樣品表面各種元素...
角分辨X射線光電子能譜儀是一種用於材料科學、化學、物理學、化學工程領域的分析儀器,於2016年12月29日啟用。技術指標 單色化Al靶、雙陽極Al/Mg靶、功率大於等於500W; 超高真空系統,樣品分析室真空優於5*10^-10 Torr; 能量分辨優於0.5eV/(Ag 3d5/2), 0.8 eV/(C 1s); 對樣品進行表面元素和價態...
《X光電子能譜的蒙特卡洛模擬》是依託中國科學技術大學,由丁澤軍擔任項目負責人的面上項目。中文摘要 本項課題著重於定量地描述X光電子在材料中的產生和發射過程,研究非彈性散射背景的構3桑幢礱婕しⅰ⑻寮し⒁約凹讀蔚繾擁姆直鴯畢住Mü商乜ɑ罘椒D獾繾釉誆牧系謀礱婧吞迥詰納⑸浜褪湓斯蹋...
《表面化學分析 X射線光電子能譜分析指南》(標準號:GB/T 30704-2014)是2014年3月27日中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局、中國國家標準化管理委員會發布的國家標準。編制進程 2014年3月27日,《表面化學分析 X射線光電子能譜分析指南》發布。2014年12月1日,《表面化學分析 X射線光電子能譜分析指南》實施...
光電子能譜技術包括X光電子能譜(XPS)和俄歇光電子能譜(AES);光譜分析掛術包括紅外光譜(IR)和Raman光譜;顯微分析技術中有掃描隧道顯微鏡(STM),原子力顯微鏡(AFM)及掃描和透射電子顯微鏡(SEM、TEM);X射線分析技術主要是X射線衍射(XRD)。方法介紹 X光電子能譜:是電子材料 與元器件顯微分析中的一種先進分析技術...