雷射直寫光刻機

雷射直寫光刻機是一種用於物理學、信息科學與系統科學、材料科學、機械工程領域的儀器，於2012年12月24日啟用。

基本介紹

• 中文名：雷射直寫光刻機
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、信息科學與系統科學、材料科學、機械工程
• 啟用日期：2012年12月24日

技術指標

設備採用高功率LED（λ：405nm）光源和全自動對焦、對準技術，長壽命、低功耗。採用專利技術的LED固體光源和高精密光柵尺定位工作平台，可實現0.65um的亞微米解析度光刻及0.6um的套刻精度。

主要功能

該設備是基於空間光調製器的直寫光刻設備，用於製作光刻掩膜。