紫外高速雷射直寫光刻系統虛擬仿真實驗項目是浙江科技學院建設的虛擬仿真實驗課程。
基本介紹
- 中文名:紫外高速雷射直寫光刻系統虛擬仿真實驗項目
- 建設院校: 浙江科技學院
- 課程負責人: 徐弼軍
- 授課教師:黃喆、吳俊、阮世平、李祖樟
紫外高速雷射直寫光刻系統虛擬仿真實驗項目是浙江科技學院建設的虛擬仿真實驗課程。
紫外高速雷射直寫光刻系統虛擬仿真實驗項目是浙江科技學院建設的虛擬仿真實驗課程。課程性質課程背景對紫外高速雷射直寫光刻系統I藝進行虛擬仿真實驗,作為真實實驗的有效補充,旨在培養學生接觸現代工業界先進光刻工藝,增進其對器件工...
實驗34電磁力測量研究性實驗 第八章 虛擬仿真實驗 實驗35紫外高速雷射直寫光刻系統虛擬仿真實驗 實驗36X射線虛擬仿真實驗 參考文獻 附錄 附錄1基本物理常數 附錄2常見固體和液體的密度 附錄3部分金屬的楊氏彈性模量(20℃)附錄4不同溫度下與空氣接觸的水的表面張力 附錄5常用光源的譜線波長 ...
雷射直寫光刻系統是一種用於物理學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2015年4月17日啟用。技術指標 雷射波長405納米,最高解析度0.6微米,最大樣品尺寸:8英寸。主要功能 與通過物理掩模板進行光照的傳統工藝不同,雷射直寫是通過電腦控制一系列雷射脈衝的開關,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。 15個藍光...
(1)成本高。所涉及設備,如超高真空分子束外延及原位表征系統( MBE-SPM系統)、雷射直寫光刻系統等價格昂貴維護成本高,且每生長-爐IVI族半 導體外延材料需耗費幾千元、耗時十幾個小時,耗時、耗材。(2)對環境條件要求苛刻。需超高真空等極端環境。(3)微觀機理難以展示。內容複雜深奧、概念抽象難懂且設備封裝程度高,...
高速旋轉雷射直寫光刻機 高速旋轉雷射直寫光刻機是一種用於物理學、材料科學領域的科學儀器,於2014年11月28日啟用。技術指標 雷射波長405 nm,解析度達100nm。主要功能 通過雷射與材料的相互作用,調節樣品台旋轉及X軸運動速度,可以實現類光柵結構點線陣列、任意圖形和灰度圖形的激光刻寫。
無掩膜雷射直寫光刻系統是一種用於材料科學領域的科學儀器,於2017年5月8日啟用。技術指標 線寬解析度:需同時具有高解析度(優於1um)和低解析度(優於5um)兩種獨立工作的模式,且兩種解析度模式可由軟體自由切換;c、*線寬均勻性:優於250nm;d、*邊緣粗糙度:優於100nm;e、*對準精度:優於200nm。主要功能 ...
第3章 實驗項目設計 3.1 實驗模組組成說明 3.2 模組一——現代設計方向綜合實驗 實驗一 機械傳動方案最佳化綜合檢測實驗 實驗二 氣壓傳動與PLC控制綜合實驗 實驗三 逆向工程設計綜合實驗 3.3 模組二——先進制造方向綜合實驗 實驗一 智慧型製造生產線綜合實驗 實驗二 雷射直寫光刻綜合實驗 實驗三 增材製造綜合實驗...
本項目旨在解決在光泵浦條件下實現激發複合體的雷射發射問題,分析其發射特性及理論機制。在結構製備方面,以紫外雷射干涉灼蝕直寫技術為手段,結合基於有源波導耦合光柵設計雷射器結構的新思路,系統研究干涉雷射能量、雷射腔結構參數和有機半導體異質結材料的匹配關係;在材料光物理學性質方面,採用時間分辨光譜學和飛秒...
中國科學院微電子研究所納米加工與新器件集成技術研究室(三室)在國內最早開展亞微米微細加工技術研究,該研究室同時也是國家納米科學中心協作實驗室。研究室擁有面積達500平方米的微納米加工平台和電子束光刻公共平台,主要研究方向有納米加工與先進掩模製造技術、新型存儲器技術、納米尺度衍射光學元件、有機器件和...
研究所是“現代光學技術”教育部重點實驗室、省重點實驗室的組成單位;“光學工程”為省重點學科。主要從事微納米結構製造技術、大口徑衍射光學元件、寬幅幅面微米結構雷射干涉光刻系統、新型顯示與光導器件、微納米壓印技術與設備、全息投影屏、薄膜照明器件、雷射轉移材料、衍射光學儀器等領域的研製與產業化工作。建有衍射...
本項目提出柔性金屬基透明電極製備的新方案,以實現任意基底上、可人工設計的透明導電電極,其透光特性和導電特性可根據實際套用需求進行設計和調整。本項目採用雷射直寫技術、選擇性電沉積技術及填充技術製作埋入式金屬線柵型透明導電電極,電極的透光率可達80%-90%,方阻僅為0.03-10歐/方。並系統研究了襯底材料特性...
重點實驗室 國家工程實驗室:高密度積體電路封裝技術國家工程實驗室 廣東重點實驗室:廣東省機器人與智慧型系統重點實驗室 中科院重點實驗室:中科院生物醫學信息與健康工程學重點實驗室 深圳市重點實驗室:深圳市低成本健康重點實驗室、深圳市射頻積體電路重點實驗室、深圳市電動汽車動力平台與安全技術重點實驗室、深圳癌症...
利用近場光學掃描系統對單個納米異質結進行光致發光和拉曼光譜研究,揭示光子或激子在異質結的傳輸過程中其能量、強度隨空間位置的變化規律,實現一維納米異質結的光波導特性。利用光刻技術(含雷射直寫技術)構建納米器件,研究單個納米異質結的電致發光行為;結合I-V特性,研究納米器件的光發射機理,並與光...
5.搭建並完善了飛秒雷射直寫系統,研究了不同材料微結構加工工藝參數與過程,完成了SU8光刻膠、IP-S光刻膠10層600納米線寬的加工實驗;6. 在進行二維超材料的研究中,我們發現Si材料具有獨特的相位調控優勢,它折射率高,對紅外光的吸收小,非常適合作為紅外相位調控器件的基礎材料,經過大量仿真,基於Si材料設計...
3.4.5 雷射全息光刻 071 參考文獻 075 第4章 結構色材料中有序單元的製備及組裝077 4.1 概述 078 4.2 單分散膠體粒子的合成 079 4.2.1 單分散無機膠體粒子的合成 079 4.2.2 單分散聚合物膠體粒子的合成 084 4.2.3 單分散複合膠體粒子的合成 086 4.2.4 單分散膠體粒子的表面修飾 094 4.3...
研究了微介質錐和納金屬錐新型探針的製備技術和工藝,利用雷射直寫和電感耦合電漿刻蝕技術製備了微介質錐,利用電化學腐蝕技術製備了非線性納金屬錐,初步構建了高空間解析度和高靈敏度的針尖增強拉曼光譜檢測實驗系統。此外,我們還利用電化學陽極氧化法製備了部分周期納米孔,研究了納米孔中心位置和半徑大小隨機變化其...
本項目面向細胞或者片上組織尺度的特殊跨尺度微納器件化需求,在保證飛秒雷射多光子光刻加工納米解析度的前提下(百納米),最佳化了雷射微納加工系統的有效工作範圍(約所用透鏡平視場範圍1.5倍,例如,用高數值孔徑(1.42)60倍油鏡實現~550-600微米的有效加工範圍)和效率等;實現了利用飛秒雷射直寫等微納加工技...
3.4.5 雷射全息光刻 071 參考文獻 075 第4章 結構色材料中有序單元的製備及組裝077 4.1 概述 078 4.2 單分散膠體粒子的合成 079 4.2.1 單分散無機膠體粒子的合成 079 4.2.2 單分散聚合物膠體粒子的合成 084 4.2.3 單分散複合膠體粒子的合成 086 4.2.4 單分散膠體粒子的表面修飾 094 4.3...