無掩膜雷射直寫光刻系統

無掩膜雷射直寫光刻系統是一種用於材料科學領域的科學儀器，於2017年5月8日啟用。

基本介紹

• 中文名：無掩膜雷射直寫光刻系統
• 產地：英國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2017年5月8日

技術指標

線寬解析度：需同時具有高解析度（優於1um）和低解析度（優於5um）兩種獨立工作的模式，且兩種解析度模式可由軟體自由切換；c、*線寬均勻性：優於250nm；d、*邊緣粗糙度：優於100nm；e、*對準精度：優於200nm。

主要功能

微納器件構築。