無掩模直寫光刻系統

無掩模直寫光刻系統是一種用於機械工程領域的儀器，於2015年12月22日啟用。

基本介紹

• 中文名：無掩模直寫光刻系統
• 產地：英國
• 學科領域：機械工程
• 啟用日期：2015年12月22日

技術指標

1. 1微米解析度 2. 150mm*150mm有效直寫面積 3. 1微米對準精度 4. 200nm自動對焦精度。

主要功能

微納無掩膜加工。