微細電解加工是指在微細加工範圍內( 1 μ m ~1 mm),套用電解加工得到高精度、微小尺寸零件的加工方法 。在許多場合, 微細電解加工有著獨特的優勢,如高的加工效率 , 良好的成形精度, 容易對材料的去除進行控制 ,適合加工的材料範圍廣 ,不需考慮工件材料的強度 、硬度等機械特性 ,加工過程工具無磨損, 工件上不產生應力等優點。由於這些優勢 , 微細電解加工有望得到更好的發展。
基本介紹
- 中文名:微細電解加工
- 外文名:Microelectrochemical machining
典型微細電解加工技術
掩膜微細電解加工是結合了掩膜光刻技術的電解加工方法 。它是在工件的表面( 單面或雙面) 塗敷一層光刻膠 ,經過光刻顯影后 ,工件上形成具有一定圖案的裸露表面 , 然後通過束流電解加工或浸液電解加工 ,選擇性地溶解未被光刻膠保護的裸露部分 ,最終加工出所需形狀工件。由於金屬溶解是各向同性的 ,金屬在徑向溶解的同時也橫向被溶解 , 因此研究如何控制溶解形狀 、儘量減少橫向溶解等對保證掩膜微細電解的加工精度非常重要。為了提高加工速度和加工精度, 可在工件兩面都覆蓋一層圖案完全相同的掩膜 , 從兩邊相向同時進行溶解 。
電液流微細加工是在金屬管電極加工小孔的基礎上發展起來的一種微細電解加工方法, 主要用於加工航空工業中的各種小孔結構。電液流加工時,採用呈收斂形狀的絕緣玻璃管噴嘴抑制電化學反應的雜散腐蝕 ,高壓電解液由玻璃管中的高壓金屬絲極化後,高速射向工件待加工部位 ,利用高電壓電場進行金屬的電化學去除加工。玻璃管電極是電射流加工的主要工具。玻璃管的直徑大小決定了電射流加工的尺度, 通常加工孔徑為 0 . 13 ~ 1 . 30 mm 。據國外報導, 可加工最小孔徑為 0 . 025 mm , 加 工 精 度 為 孔 徑 的 ±5 %或 ±0 . 025 mm。電射流加工技術非常適合加工航空發動機高溫渦輪葉片的深小孔 、孔軸線與表面夾角很小的斜孔和群孔等。電液流加工方法不存在切削力 ,因此可對薄壁零件進行切割。由於玻璃管陰極的製造工藝限制了陰極直徑尺寸不可能任意縮小,從而大大限制了電液束加工的能力。採用陰極不進給的方式,加工孔徑不受電極直徑尺寸的限制, 故可加工出直徑小於 0 . 1 mm 的微孔, 但加工深度很有限 。而採用陰極進給方式 ,加工孔徑至少要大於陰極管的外徑。目前的研究水平表明, 對於直徑為 0 . 2mm以上的微孔,採用陰極進給方式加工 , 可加工出深徑比為 100∶ 1 的深小孔 。
EFAB 技術
EFAB( Electrochemical Fabrication)製作技術是由美國南加州大學信息研究所的 Adam Coben 等人於1999 年提出的。它是基於 SFF( Solid Freeform Fabrication) 的分層製造原理 , 用一系列實時的掩模板選擇性電沉積金屬將微結構層層堆積起來 , 這些實時的掩模板是通過將光刻膠塗於金屬襯底上 ,經光刻顯影后形成的 。在電沉積時 ,掩模板的襯底作為電鑄陽極, 這與 LIGA 和準 LIGA 技術中的掩模電鑄是完全不同的[ 12] 。利用 EFAB 製作三維金屬微結構需循環進行選擇性電沉積、平鋪電沉積和平坦化 3個步驟以及最後的選擇性刻蝕, 選擇性電沉積和平鋪電沉積的金屬, 既可是結構金屬也可是犧牲層金屬 ,它克服了 LIGA 和準 LIGA 只能加工簡單平面三維的缺點,能加工真正的三維圖形,因而具有很好發展前景。但 EFAB 也存在著加工過程非常複雜、步驟繁多的問題,這使製造費用極其昂貴。
約束刻蝕劑層技術( Confined Etchant Layer Technique, 簡稱 CELT) 是 1992 年由廈門大學的田昭武院士等人提出的。該技術將傳統的各向同性的濕法化學刻蝕變為具有距離敏感性的化學刻蝕 , 能在不同的材料( 半導體、金屬和絕緣材料) 上實現複雜三維微圖形的複製加工 ,已成功地在 Si 、Cu 、GaAs 等材料上加工出複雜三維立體結構。其加工的基本原理是 : 利用電化學或光化學反應在三維圖形的模板表面產生刻蝕劑,當刻蝕劑向溶液中擴散時 ,與溶液中的捕捉劑迅速發生反應 , 致使刻蝕劑幾乎無法從模板表面往溶液深處擴散 , 從而把刻蝕劑緊緊地約束在模板表面輪廓附近的很小區域內。當模板逐步靠近待加工材料的表面時 , 被約束的刻蝕劑就能和待加工基底的表面發生化學反應 , 從而加工出與模板互補的三維微圖形 。
脈衝微細電解加工技術
雖然電解加工利用電化學溶解蝕除的方式加工 ,理論上可達到離子級的加工精度 ,在加工質量上又具有很多優點 ,但加工中在陽極工件表面不管是加工區還是非加工區只要有電流通過 , 都會發生電化學反應 ,造成雜散腐蝕 。因此 ,將其套用於微細加工領域 ,必須解決雜散腐蝕的問題 ,提高電化學反應的定域蝕除能力 。早期研究發現 ,脈衝電解可提高溶解的定域性和過程穩定性 , 但對脈衝寬度在溶解定域性上起多大作用及其起作用的具體機理並不清楚 。後來研究發現 ,脈衝電解中採用脈寬為毫秒級和微秒級的脈衝 ,可使電流效率-電流密度曲線的斜率增大 ,加工過程的非線性效應增強 ,工件溶解的定域性得到提高 , 有利於提高加工精度 。隨著納秒脈衝電源的套用 ,微細電解加工得以向更細微化的方向發展 。德國 Fritz -Haber 研究所的 R . Schuster 、 V . Kirchner 等人採用脈衝寬度為納秒級的超短脈衝電流進行電化學微細加工新技術 , 成功地加工出了數微米尺寸的微細零件 , 加工精度可達幾百納米 ,充分發揮了脈衝電流微細電解加工的潛力 。該技術根據電化學測試技術 ,在電解加工系統中又增加了參比電極和輔助電極 ,用電化學恆電位儀嚴格監控工具和工件的電極電位( 將工具電位控制在被加工金屬的平衡電位 , 工件電位控制在高於工具電位 0 . 2 V) ; 通過對極間電流波形的高速採樣精密控制加工間隙至 1 μ m , 使用超短脈衝( 脈寬30 ns 、占空比 1∶ 10) 小容量電源提供能量 , 實現了亞微米級精度的電化學加工 。
基於掃描探針顯微術的微細電解加工技術近年來受到廣泛關注 , 其中既有基於掃描電化學顯微鏡( SECM) 的 ,也有基於掃描隧道顯微鏡( STM )的 , 不過基本上都是處於實驗室研究階段 。該方法的特點是加工尺度可達微米級以下 ,顯示出微細電解加工技術在微/納加工領域的潛能 。加工中的陰極通常採用電化學腐蝕得到的探針電極 , 探針的形狀和尺寸對加工的解析度和加工質量有很大影響 ,探針針尖尺寸可小至納米級 。日本研究人員採用 STM 進行電解腐蝕 , 加工出深 100 nm 、寬 200 ~ 300 nm 的微槽。也有人嘗試採用雷射與 STM 聯用進行電解微/納米材料加工的新方法 。考慮到採用 STM 進行微細電解加工對設備和加工條件要求苛刻 ,有人提出相對簡單的基於掃描離子電導顯微術的電解微細加工方法 : 採用內部充滿電解液的微滴管作為微探針 ,微滴管的尖連線埠徑從 0 . 1 μ m 到數十微米不等 ,在微滴管內設定一金屬電極構成陰極 , 通過反饋控制電路保持微滴管與陽極表面的間距恆定,移動微滴管以不同路徑橫向掃描陽極 , 即可在陽極表面加工出任意形狀的點 、線 、面結構。