無掩膜數字光刻機是一種用於信息科學與系統科學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2016年09月30日啟用。
基本介紹
- 中文名：無掩膜數字光刻機
- 產地：英國
- 學科領域：信息科學與系統科學、材料科學
- 啟用日期：2016年09月30日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
主要技術指標：1. *光刻最小線寬可達1um2. *直寫進程中可以在1um與5um解析度之間自動切換3. *可做6 inch標準矽片光刻， 書寫區域不小於145mm X 145mm4. *具有3D光刻功能，灰階不低於2555. 具有自動對焦功能，對表面不平樣品實時自動對焦補償6. 多種對準模式：標記物坐標對準模式；模擬光刻機對準模式；局部坐標修正對準模式7. 對準精度優於+/- 1um.。
主要功能
無掩模數字光刻機是一種不需要掩膜就可以直接光刻出所需圖形的光刻機，可以靈活的更改版圖設計，省去製版的費用和時間，同時還可以進行灰度光刻，具有靈活、套用範圍廣之優點，非常適合碳管積體電路初期的光刻版圖多變的實驗要求。
