數字無掩膜光刻機是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2014年03月03日啟用。
基本介紹
- 中文名:數字無掩膜光刻機
- 產地:中國
- 學科領域:物理學
- 啟用日期:2014年03月03日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
光刻分辨力:13.68μm、5μm 、2μm 、1.5μm 、1 μm 工件台運動範圍:X:100mm、 Y:100mm;。
主要功能
數字光刻。
數字無掩膜光刻機是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2014年03月03日啟用。
數字無掩膜光刻機是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2014年03月03日啟用。技術指標 光刻分辨力:13.68μm、5μm 、2μm 、1.5μm 、1 μm 工件台運動範圍:X:100mm、 Y:100mm;。主要功能 數字光刻。
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