無掩膜光刻機

無掩膜光刻機是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器，於2016年5月9日啟用。

基本介紹

• 中文名：無掩膜光刻機
• 產地：德國
• 學科領域：信息與系統科學相關工程與技術
• 啟用日期：2016年5月9日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

1. 樣品最大尺寸：6英寸 2. 曝光光源： LED光源 3. 解析度： 1微米 4. 最大直寫速度：大於或者等於50mm2/min 5. 掩模版設計軟體： 支持DXF和GDS2文檔。

主要功能

根據繪製的掩膜圖形直接曝光掩膜光刻膠。