無掩膜雷射直寫光刻機可以在光刻膠上直接曝光繪出所需要的圖案，而不需要掩膜版。
基本介紹
- 中文名：無掩膜雷射直寫光刻機
- 用途：光刻
概念,技術特徵,套用,
概念
小型台式無掩膜光刻機Microwriter ML3，通過雷射直寫在光刻膠上直接曝光製作所需要的圖案，而無需掩膜版，專為實驗室設計開發，適用於各種實驗室桌面。
技術特徵
Focus Lock自動對焦
Focus Lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測，並通過Z向調整和補償，以保證曝光解析度。
直寫前預檢查
軟體可以實時顯微觀測基體表面，並顯示預直寫圖形位置。通過調整位置、角度，直到設計圖形按要求與已有結構重合，保證直寫準確。
標記物自動識別
點擊“Bulls-Eye”按鈕，系統自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別後，將自動將其移動到顯微鏡中心位置。
光學輪廓儀
Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具，用於勻膠後沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向最高精度100 nm，方便快捷。
簡單的直寫軟體
MicroWriter ML3由一個簡單直觀的Windows界面軟體控制。工具列會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟體在Windows10系統下運行。
Clewin 掩模圖形設計軟體
+ 可以讀取多種圖形設計檔案（DXF, CIF, GDSII, 等）
+ 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
+ 書寫範圍只由基片尺寸決定
套用
電子/半導體器件
微/納電機系統
自旋電子學
感測器
微流控
材料科學
生物實驗室晶片
光子學
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