基本介紹
- 中文名:紫外曝光機
- 外文名:Mask Aligner
- 別名:光刻機、掩模對準曝光機等
- 釋義:PCB製作工藝的重要設備
- 主要性能指標:解析度、對準精度、曝光方式等
- 分類:接觸式、接近式和投影式曝光
紫外曝光機,也稱光刻機、掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等,是印刷線路板(PCB)製作工藝中的重要設備。一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。其主要性能指...
紫外線曝光機是指通過開啟燈光發出UVA波長的紫外線,將膠片或其他透明體上的圖像信息轉移到塗有感光物質的表面上的機器設備。組成機構 UV燈構造 帶托盤的晶片工作檯 配CCD鏡頭的顯微鏡 監視器 掩膜夾具 UV燈透鏡 UV燈鏡片 UV燈電源系統 操...
亞微米紫外曝光機是一種用於工程與技術科學基礎學科領域的工藝試驗儀器,於2014年12月12日啟用。技術指標 可加工6英寸及以下尺寸樣品;有真空、硬接觸、軟接觸、近鄰等曝光模式;可加工最小線寬為0.8um(真空模式);對準精度TSA為0.5...
掩膜紫外曝光機是一種用於電子與通信技術領域的特種檢測儀器,於2012年7月10日啟用。技術指標 1 有效曝光面積 ≥6英寸直徑 2 光的均勻性 ≤±1%(2英寸內) ≤±2%(4英寸內) ≤±3%(6英寸內) 3 正面對準精度: ≤ /-...
紫外曝光光刻機 紫外曝光光刻機是一種用於物理學領域的儀器,於2013年12月1日啟用。技術指標 光刻樣品大小範圍:最大可達6英寸的晶圓片。主要功能 器件製備工藝刻蝕。
極紫外線光刻機(Extreme Ultra-violet),又通常被稱為EUV光刻機,它以波長為10~14納米的極紫外光作為光源的光刻技術,該設備當前可被套用於14納米及以下的先進制程晶片的製造。極紫外線光刻機是晶片生產工具,是生產大規模積體電路...
極紫外光刻機曝光系統主要由反射鏡構成的照明光學系統(illumination optics)和投影光學系統(projection optics)組成。 極紫外光刻機曝光系統如圖1所示,圖中分別畫出了極紫外(EUV)光源、光照光學系統、投影光學系統等。光源發出的13.5nm...
■9個曝光能量設定並可保存 汗化液晶屏顯示 ■9個曝光時間設定並可保存 可觸摸鍵盤 ■UV曝光能量手動設定 UV遮擋視窗 ■UV曝光時間手動設定 大型不鏽鋼紫外曝光機 ■外部尺寸:360mm×340mm×310mm ■曝光室尺寸:長340mm...
紫外光刻機是一種用於數學領域的分析儀器,於2012年7月1日啟用。技術指標 特徵尺寸優於0.5微米。主要功能 該光刻機可廣泛用於MEMS和光電子,例如LED生產。它經過特殊設計,方便處理各種非標準基片、例如混合、高頻元件和易碎的III-V族...
ABM高性能紫外光刻機是一種用於材料科學領域的計算機及其配套設備,於2014年4月10日啟用。技術指標 350瓦近紫外6”光源,設有2頻道光強或功率恆定控制裝置。提供可支持6”晶圓曝光的均勻光源。主要功能 通過開啟紫外光線,將膠片或掩模板...
單面紫外光刻機是一種用於信息科學與系統科學、物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2011年03月02日啟用。技術指標 3-5mm樣品台,20×物鏡,雙視場分離,解析度0.8μm,套外精度優於±0.5μm,365nm波長不低於40mW/cm2,光...
極紫外光刻機,選取了新的方案來進一步提供更短波長的光源。目前主要採用的辦法是將準分子雷射照射在錫滴液發生器上,激發出13.5nm的光子,作為光刻機光源。ASML(阿斯麥) 目前其是全世界唯一一家能夠設計和製造EUV光刻機設備的廠商...
幾乎所有的光學材料對13.5nm波長的極紫外光都有很強的吸收,因此,EUV光刻機的光學系統只有使用反光鏡。極紫外光刻的實際套用比原先估計的將近晚了10多年。基本介紹 EUV光刻採用波長為10-14納米的極紫外光作為光源,可使曝光波長一下...
手動曝光機 手動平行曝光機 UV乾燥線 IR紅外線隧道爐 紅外線加硫缸 壓膜機 自動壓膜機 手動壓膜機 壓膜預熱機 二次壓2ND 真空壓膜機 PCB 設備 PCB/FPC專用壓膜機 PCB連線式乾燥設備 PCB專用精密熱風烤箱 PCB專用UV乾燥系統 紫外線...
萊特科技(東莞)有限公司是一家集開發、設計、製造於一體的專業機械製造廠。所生產的設備,已達幾十個品種,主要產品有紫外線乾燥系統、曝光機、無塵烤箱、曬版機、UV輸送線及代理各國進口燈管,在鞋業、PCB、電子、塗裝、印刷、液晶等...
SEMATECH則購買Exitech公司的曝光機開展針對掩模光膠、膠的處理工藝、勻膠顯影軌道系統、膠的刻蝕性能和相關測量技術等方面的研究。極紫外曝光 歐洲和日本諸公司正在研究 1997年由Intel、AMD、Micron、Motorola、SVGL、USAL、ASML組成極紫外...