單面紫外光刻機

單面紫外光刻機是一種用於信息科學與系統科學、物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2011年03月02日啟用。

基本介紹

• 中文名：單面紫外光刻機
• 產地：德國
• 學科領域：信息科學與系統科學、物理學、材料科學
• 啟用日期：2011年03月02日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

3-5mm樣品台，20×物鏡，雙視場分離，解析度0.8μm，套外精度優於±0.5μm，365nm波長不低於40mW/cm2，光強度均勻度，100mm，直徑內優於±3%。

主要功能

採用掩膜對準技術,對光刻膠進行曝光,使受紫外光輻照的光刻膠發生改變，從而完成刻蝕。