紫外曝光光刻機

紫外曝光光刻機是一種用於物理學領域的儀器，於2013年12月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：紫外曝光光刻機
• 產地：韓國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2013年12月1日

技術指標

光刻樣品大小範圍：最大可達6英寸的晶圓片。

主要功能

器件製備工藝刻蝕。