步進光刻機

步進光刻機是把投影掩模版上的圖形與塗膠矽片進行對準，而後從一點到另一點逐場曝光。

基本介紹

• 中文名：步進光刻機
• 外文名：stepper

在光學光刻中，步進光刻機有三個基本目標，所有這些目標都必須滿足用戶精度和重複性的規範：

（1）使矽片表面和石英掩模版對準並聚焦（包括圖形）；

（2）通過對光刻膠曝光，把高解析度的投影掩模版上圖形複製到矽片上；

（3）在單位時間內生產出足夠多的符合產品質量規格的矽片。

當矽片表面塗過光刻膠並前烘以後，步進光刻機就開始進行對準和曝光操作。帶膠矽片被自動傳送到光刻機的承片台上。在這個台子上，矽片根據需要被提升或降低來把它置於光刻機光學系統的聚焦範圍內。矽片與投影掩模版對準以保證圖形能夠傳送到矽片表面的合適位置。一旦最佳聚焦和對準獲得後，快門就被打開，使紫外光通過照明系統到投影掩模版，再通過投影透鏡最後到帶膠的矽片上。所有聚焦矽片對準和曝光操作都由步進光刻機來完成。當一個圖形曝光完後，步進光刻機會步進到矽片的下一個位置並重複對準和曝光過程（這就解釋了名字中的步進-重複）。步進光刻機通常與一台自動軌道機相連，軌道機執行了其他所有基本的光刻操作。