對準，讀音duì zhǔn，意思是把一架攝影機對準那個景物。
基本介紹
- 中文名：對準
- 同義詞 ：瞄準
- 拼音：duì zhǔn
- 注音：ㄉㄨㄟˋ ㄓㄨㄣˇ
基本資料,基本解釋,
基本資料
詞目：對準
拼音：duì zhǔn
注音：ㄉㄨㄟˋ ㄓㄨㄣˇ
同義詞： 瞄準
基本解釋
1. [aim at]∶瞄準
把一架攝影機對準那個景物
2. [aligment]∶準線
軸對準
對準
相關詞條
- 對準
對準,讀音duì zhǔn,意思是把一架攝影機對準那個景物。...... 對準,讀音duì zhǔn,意思是把一架攝影機對準那個景物。中文名 對準 同義詞 瞄準 拼音 duì ...
- 對準操作
對準操作在電子製造裝備中大量使用。精密對準主要用於光刻工藝中掩模板與晶圓的對準、晶片鍵合時晶片與基板的對準、表面組裝工藝中元器件與PCB基板的對準。此外,精密...
- 對準標記
光刻機的晶圓對準系統首先會調整晶圓的位置,使之與晶圓工件台初步對準;掩模對準系統也會調整掩模的位置,使之與掩模工件台初步對準。然後,光刻機的對準系統(...
- 對準標識
對準標識是指積體電路製造工藝中,凡是在對準雷射照射下能產生衍射的周期性結構都可以被認為是對準標識。然而,在實際工藝條件下,對準標識還必須滿足其他條件:第一,...
- 自對準技術
微電子技術中利用元件、器件結構特點實現光複印自動對準的技術。...... 微電子技術中利用元件、器件結構特點實現光複印自動對準的技術。 目錄 1 正文 ...
- 軸線對準
導航系統機械坐標系相對運載體基準軸系對準或確定其角度的過程,通常採用光學方法。...... 導航系統機械坐標系相對運載體基準軸系對準或確定其角度的過程,通常採用光學方...
- 陀螺羅經法對準
陀螺羅經法對準是一種方位自動對準的過程。對捷聯式慣導系統來說,陀螺羅經法和傳遞對準法是兩種基本的初始對準方法。陀螺羅經法的目的是確定IMU坐標系統(或機體系...
- 初始對準
初始對準指慣性導航系統開始導航之前的工作狀態。在此期間,一般進行坐標系對準、初始參數的測定和裝定。 ...
- 傳遞對準
把基準坐標系傳遞給慣性導航系統(Inertial navigation system)進行初始對準的方法。...
- 對準機
對準機 組成部分 光學光刻 在晶片製造過程中,光學光刻是一個非常重要的組成部分。光刻的主要目的是,利用光在半導體矽片上刻出所需要的圖形。光學光刻可以分成兩...
- 電晶體自對準技術
電晶體自對準技術,這是製作MOS大規模積體電路的一種重要工藝技術。採用該技術即可減小其中MOSFET的寄生電容,大大提高工作頻率和速度。...
- ALIGNMENT對準
1. 定義:利用晶片上的對準鍵,一般用十字鍵和光罩上的對準鍵合對為之。2. 目的:在IC的製造過程中,必須經過6~10次左右的對準、曝光來定義電路圖案,對準就是要...
- 捷聯慣性導航系統初始對準技術
《捷聯慣性導航系統初始對準技術》研究與論述了捷聯慣性導航系統的初始對準技術。全書內容分為七章,分別為概述、捷聯慣性導航系統誤差分析、捷聯慣性導航系統粗對準...
- 對準精度
光刻機的對準系統(alignment)負責把掩模上存在的圖形與晶圓上已有的圖形進行對準,對準精度(Alignment Precision,AP)則為掩模上與晶圓上圖形對準時套刻的精度。...
- 預對準
在掩模固定的位置,設有預對準標識。預對準是由兩個發光二極體及其對應的光探測器組成。...
- 捷聯式慣導系統動靜基座初始對準
《捷聯式慣導系統動靜基座初始對準》共分13章。第1章簡述了捷聯式慣導系統的基本原理和初始對準的要求與特點;第2章論述了捷聯式慣導系統的誤差方程、可觀測性和...
- 自對準雙重成像技術
自對準雙重成像技術(Self-aligned Double Patterning , SADP)即,一次光刻完成後,相繼使用非光刻工藝步驟(薄膜沉積、刻蝕等)實現對光刻圖形的空間倍頻。最後,使用...
- 前輪對準
輪胎前輪對準: 在各種車輛或機械上裝配的接地滾動的圓環形彈性橡膠製品。...... 輪胎前輪對準: 在各種車輛或機械上裝配的接地滾動的圓環形彈性橡膠製品。...
- 空中對準
中文名稱 空中對準 英文名稱 inflight alignment 定義 飛行過程中,慣性導航系統藉助於其他輔助系統提供粗略導航信息以滿足解算所需初始條件所作的對準。 套用學科 ...
- 場像對準技術
場像對準技術是一種對準精度高、結構簡單、可操作性強的對準方法,又稱視頻圖像處理對準技術。...
- 零層對準
一種用於介質基片上光刻圖形的零層對準標記結構,為設定在介質基片邊緣的直角型縱向通孔。...
- 干涉光強度對準
干涉光強度對準是一種對準精度高、穿透性強的對準方法。...... D.C. Flanders等人將衍射光干涉強度信息用於X射線光刻的對準,從而誕生了基於干涉光強度的對準方法。...
- 傳遞對準理論與套用
《傳遞對準理論與套用》是2012年出版的圖書,作者是付夢印、鄭辛、鄧志紅。...... 《傳遞對準理論與套用》是2012年出版的圖書,作者是付夢印、鄭辛、鄧志紅。...
- 立體幾何對準裝置技術方案
簡介 一種立體幾何對準技術,其特徵是: 觀測器O、P 與工具ABCDEF三者相互固定組成一個整體,在這個 整體追蹤點目標T時,觀測器O、P對稱地掃描射線AB,當點目標T...
- 捷聯慣導動基座對準新方法及導航誤差抑制技術研究
《捷聯慣導動基座對準新方法及導航誤差抑制技術研究》是2016年6月出版的圖書,作者是練軍想。...
- 光刻
光刻 一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。光刻矽片清洗烘乾 ...
- 光刻機
光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經歷矽片表面...
