對準精度

光刻機的對準系統（alignment）負責把掩模上存在的圖形與晶圓上已有的圖形進行對準，對準精度（Alignment Precision，AP）則為掩模上與晶圓上圖形對準時套刻的精度。

基本介紹

• 中文名：對準精度
• 外文名：Alignment Precision

圖1是主流光刻機ASML中對準系統示意圖，對準系統使用He-Ne雷射，雷射束經鏡子反射後，照射在晶圓表面。對準系統的主要功能就是將工件台上矽片的標記與掩膜版上的標記對準，並具有一定精度，因為一片矽片在一個工藝流程中的曝光次數可能達到幾十次次，而對準精度直接影響矽片的套刻精度，所以矽片的對準精度非常的關鍵。

圖2 光刻機對準系統示意圖

光刻對準在光刻機系統中占據著十分重要的地位，其對準精度和對準速度決定了產品的質量和生產率。一般要求對準精度為最細線寬的1/5到1/3左右。隨著光刻機技術水平的提高，線寬的特徵尺寸減小到納米級時，對光刻機對準系統提出了更高對準精度的性能指標。