步進投影光刻機

步進投影光刻機是一種用於信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2015年5月22日啟用。

基本介紹

• 中文名：步進投影光刻機
• 產地：日本
• 學科領域：信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
• 啟用日期：2015年5月22日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

解析度： 0.35um；套刻精度≦ 40nm；波長：i-Line (365nm)；寫場大小22mmx22mm；縮放倍率1:5；掩模版尺寸： 6inch；基板尺寸：φ2” , φ3”, φ4”, φ6”, 20mmx20mm, 40mmx40mm, 50mmx50mm。

主要功能

用於微米/亞微米線寬的高精度圖形套刻曝光。