對準(掩模版圖形與矽片圖形進行對準)

確定矽片上圖形的位置、方向和變形，並利用這些數據與掩模版上的圖形建立起正確關係的過程稱為對準。

基本介紹

• 中文名：對準
• 外文名：alignment

對準過程開始於投影掩模版與步進光刻機或步進掃描光刻機機身上固定的參照標記的正確對準。一旦投影掩模版和曝光設備的主體，那么承片台定位就用相應的投影掩模來測量。這個定位提供了基準修正數據，軟體將使用這些數據補償掩模版特徵的變化。為了成功地在矽片上形成圖案，必須把矽片上的圖形正確地與掩模版上的圖形進行對準。只有每個投影的圖形都能正確地與矽片上的圖形匹配，積體電路才有相應的功能。