紅外後對準雙面光刻機

紅外後對準雙面光刻機是一種用於物理學領域的儀器，於2006年08月01日啟用。

基本介紹

• 中文名：紅外後對準雙面光刻機
• 產地：美國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2006年08月01日

技術指標

主要用於功率電子器件、感測器、微波器件及MEMS（微電子機械系統）等新型電子元器件的單雙面對準及曝光工藝。 最小光刻線條：0.6μm或更好 對準精度：正面對準:

主要功能

350Watt 備用近紫外汞燈光源, 5 Gallon 顯影液 300MIF, 1Gallon AZ 5214E-IR Positive Image Reversal Photoresist。