基本介紹
- 中文名:投影掩模版
- 外文名:reticle
投影掩模版 投影掩模版是一個石英版,它包含了在矽片上重複生成的圖形,就像投影用的電影膠片的底片一樣。投影掩模版上的圖形可能僅包含一個管芯,也可能是幾個。投影掩模版指的是對於一個管芯或一組管芯的圖形。
中間掩模版製作 精縮分步重複照相或縮小分步重複投影光刻。首先根據設計原始總圖(視製版精度要求,通常總圖要比實際晶片尺寸約大100~1000倍),利用刻圖機按照光刻不同層次將所需的圖形分別刻在若干張可剝離的聚酯紅膜片上,並揭去不需要...
解析度: 0.35um;套刻精度≦ 40nm;波長:i-Line (365nm);寫場大小22mmx22mm;縮放倍率1:5;掩模版尺寸: 6inch;基板尺寸:φ2” , φ3”, φ4”, φ6”, 20mmx20mm, 40mmx40mm, 50mmx50mm。主要功能 用於微米/...
一旦硬化,交聯的負性光刻膠就不能在溶劑中被洗清洗掉。因為與正性光刻膠相反,負性光刻膠上的圖形與投影掩模版上的圖形相反,當光刻膠被曝光後,與掩模版相反的圖形會複製到矽片上,從而實現圖形的複製與轉移,即負性光刻。
這種設計可以減少投影系統光學元件的數目,控制像差和熱效應,實現1.35NA。圖2(a)是一種浸沒式光刻機投影光路的示意圖。如果投影光路中添加了奇數個反射元件,那么投影在晶圓表面的像與掩模版上的圖像是反對稱的;只是添加了偶數個...
6.11.3全反射式的掩模版和投影物鏡 6.11.4高數值孔徑的投影物鏡設計: X方向和Y方向放大率不同的 物鏡 思考題 引文 第7章塗膠烘焙顯影一體機: 軌道機 7.1軌道機的主要組成部分(塗膠機、熱板、顯影機)和功能 7.1.1塗膠...
但容易損傷和沾污掩模版和晶片上的感光膠塗層,影響成品率和掩模版壽命,對準精度的提高也受到較多的限制。一般認為,接觸式曝光只適於分立元件和中、小規模積體電路的生產。非接觸式曝光主要指投影曝光。在投影曝光系統中,掩膜圖形經光學...