《光刻機像質檢測技術（上冊）》是2021年科學出版社出版的圖書。
基本介紹
- 中文名：光刻機像質檢測技術（上冊）
- 作者：王向朝
- 出版時間：2021年
- 出版社：科學出版社
- ISBN：9787030673541
出版信息,內容簡介,目錄,
出版信息
光刻機像質檢測技術（上冊）
- 書號：9787030673541作者：王向朝等
- 外文書名：
- 裝幀：圓脊精裝開本：B5
- 頁數：529字數：784000語種：zh-Hans
- 出版社：科學出版社出版時間：2021-03-01
內容簡介
光刻機像質檢測技術是支撐光刻機整機與分系統滿足光刻機解析度、套刻精度等性能指標要求的關鍵技術。本書系統地介紹了光刻機像質檢測技術。介紹了國際主流的光刻機像質檢測技術，詳細介紹了本團隊提出的系列新技術，涵蓋了光刻膠曝光法、空間像測量法、干涉測量法等檢測技術，包括初級像質參數、波像差、偏振像差、動態像差、熱像差等像質檢測技術。本書介紹了這些技術的理論基礎、原理、模型、算法、仿真與實驗驗證等內容。以光刻機原位與線上像質檢測技術為主，也介紹了投影物鏡的離線像質檢測技術，涵蓋了深紫外乾式、浸液光刻機以及極紫外光刻機像質檢測技術。
目錄
(上冊)
序言
前言
第1章 緒論 1
1.1積體電路發展歷程 1
1.2積體電路製造工藝 3
1.3光刻機技術的發展 5
1.3.1光刻機曝光方式的演變 5
1.3.2光刻解析度的提升 7
1.4光刻機整機關鍵技術 8
1.4.1光刻機基本結構 8
1.4.2光刻機主要性能指標 14
1.4.3光刻機的技術挑戰 15
1.5光刻機的成像質量與主要性能指標 16
1.5.1成像質量的影響因素 16
1.5.2成像質量對光刻機性能指標的影響 17
1.6光刻機的技術進步與成像質量提升 18
1.6.1光刻機成像質量與像質控制 18
1.6.2像質控制與光刻機技術進步 18
1.7光刻機像質檢測技術 20
1.7.1不同類型像質參數的檢測需求 21
1.7.2不同場合下像質參數的檢測需求 22
1.7.3像質檢測的技術類型 22
1.7.4光刻機像質檢測技術體系 24
1.8本書主要內容 25
參考文獻 26
第2章光刻成像模型 29
2.1光刻成像理論 29
2.1.1標量衍射理論 29
2.1.2矢量衍射理論 31
2.2標量光刻成像模型 51
2.2.1相干成像模型 51
2.2.2部分相干成像模型 52
2.3矢量光刻成像模型 62
2.3.1建模基礎 62
2.3.2厚掩模近場模型 64
2.3.3 物方矢量場遠場衍射模型 67
2.3.4入瞳球面到出瞳球面的映射關係 76
2.3.5像方矢量場會聚成像模型 77
2.4投影物鏡熱效應模型 78
2.4.1快速熱效應模型 78
2.4.2嚴格熱效應模型 86
參考文獻 93
第3章初級像質參數檢測 95
3.1初級像質參數對光刻成像位置的影響 95
3.1.1垂軸像質參數的影響 95
3.1.2軸向像質參數的影響 97
3.2垂軸像質檢測技術 99
3.3軸向像質檢測技術 101
3.3.1 FEM技術 101
3.3.2 FOCAL技術 102
3.3.3基於神經網路的檢測技術 144
3.3.4基於雙線線寬變化量的檢測技術 153
3.3.5其他檢測技術 158
3.4垂軸與軸向像質同步檢測技術 159
3.4.1 TIS技術 159
3.4.2 鏡像 FOCAL技術 170
3.5初級像質參數檢測技術的套用拓展 178
3.5.1焦深檢測 178
3.5.2矽片表面不平度檢測 185
3.5.3套刻精度檢測 191
3.5.4像質參數熱漂移檢測 198
參考文獻 203
第4章基於光刻膠曝光的波像差檢測 205
4.1波像差對光刻成像質量的影響 205
4.1.1奇像差對光刻成像質量的影響 205
4.1.2偶像差對光刻成像質量的影響 211
4.1.3波像差對套刻精度的影響 214
4.2光束干涉檢測法 219
4.2.1雙光束干涉檢測 219
4.2.2三光束干涉檢測 229
4.2.3多光束干涉檢測 233
4.3像面曝光檢測法 242
4.3.1單一照明條件檢測 242
4.3.2多照明條件檢測 244
4.4多離焦面曝光檢測法 251
4.4.1單一照明條件檢測 251
4.4.2多照明條件檢測 259
參考文獻 273
第5章基於空間像測量的波像差檢測 275
5.1基於空間像位置偏移量的檢測 275
5.1.1二元光柵標記檢測法 275
5.1.2相移掩模標記檢測法 298
5.1.3混合標記檢測法 322
5.2基於空間像線寬不對稱度的檢測 328
5.2.1雙線標記檢測法 328
5.2.2 Brick Wall標記檢測法 333
5.3基於空間像峰值光強差的檢測 337
5.3.1相移掩模標記檢測法 337
5.3.2二元雙縫圖形標記檢測法 346
5.4基於空間像傅立葉分析的檢測 354
5.4.1檢測原理 354
5.4.2仿真實驗 359
5.5基於空間像解析線性模型的檢測 362
5.5.1檢測原理 362
5.5.2仿真實驗 368
5.5.3技術最佳化 371
參考文獻 373
第6章基於空間像主成分分析的波像差檢測 375
6.1 AMAI-PCA技術 375
6.1.1檢測原理 375
6.1.2仿真與實驗 390
6.1.3工程套用技術 404
6.2高精度波像差檢測方法 433
6.2.1 多級 BBD採樣法 433
6.2.2 Three-Space標記檢測法 438
6.2.3階梯相位環標記檢測法 442
6.3高階波像差檢測方法 452
6.3.1多照明設定法 452
6.3.2環形照明檢測法 457
6.3.3六方向孤立空標記檢測法 468
6.3.4二階模型檢測法 483
6.4浸液光刻機投影物鏡波像差檢測 496
6.4.1基於矢量成像模型的波像差檢測 496
6.4.2基於八方向孤立空標記的高階波像差檢測 507
6.4.3基於線性採樣的波像差快速檢測 517
6.4.4基於多偏振照明條件的高精度波像差檢測 521
參考文獻 528
(下冊)
第7章基於原位 PMI的波像差檢測
第8章偏振像差檢測
第9章極紫外光刻投影物鏡波像差檢測
第10章像質檢測關鍵依託技術
後記
