紫外光刻機系統

紫外光刻機系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2013年11月07日啟用。

基本介紹

• 中文名：紫外光刻機系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2013年11月07日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

URE200S-A|| ||曝光面積：150*150mm，解析度：0.8微米。

主要功能

用於圖形化。