掩膜紫外曝光機

掩膜紫外曝光機是一種用於電子與通信技術領域的特種檢測儀器，於2012年7月10日啟用。

基本介紹

• 中文名：掩膜紫外曝光機
• 產地：美國
• 學科領域：電子與通信技術
• 啟用日期：2012年7月10日
• 所屬類別：特種檢測儀器 > 光電檢測儀器

技術指標

1 有效曝光面積 ≥6英寸直徑 2 光的均勻性 ≤±1％（2英寸內） ≤±2％（4英寸內） ≤±3％（6英寸內） 3 正面對準精度： ≤ /-0.5μm 4 曝光精度 ≤0.3μm（硬接觸 使用深紫外光源） ≤0.5μm（硬接觸 使用近紫外光源）。

主要功能

該設備結構設計合理，操作簡便，對位快速準確，適合於科研教學需要。該設備具有LCD顯示器作對準觀察顯示屏，其尺寸17英寸。該設備具有氣動鎖定X、Y軸的移動功能和N2自動補償功能；Z軸具有上升停止保護功能，輸出光具有光強度補償功能,對準裝置在前一次對準和後一次對準時應帶有位置記憶功能,以方便操作員的操作,節省工作時間.設備所有零部件和各種儀表的計量單位應全部採用國際單位通用標準。設備設計製造應符合ISO國際標準，設備噪聲符合國家標準或國際標準。