紫外曝光系統

紫外曝光系統

紫外曝光系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2015年05月13日啟用。

基本介紹

  • 中文名:紫外曝光系統
  • 產地:德國
  • 學科領域:物理學、材料科學
  • 啟用日期:2015年05月13日
  • 所屬類別:工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備
技術指標,主要功能,

技術指標

(1)具有穩定可靠的晶片厚度補償系統,可對晶片進行自調平和真空吸附。 ★(2)由計算機進行工藝參數設定,具有專用控制軟體。軟體具有工藝參數設定、設備控制、硬體自我故障診斷與檢測功能,操作方便快捷。 (3)晶片尺寸:最大6英寸。

主要功能

主要套用於製備基於III-V族,II-VI族和矽鍺及其氧化物氮化物等多種材料的納米壓電電子學和壓電光電子學納米陣列器件,微納系統和耦合感測器等領域。

相關詞條

熱門詞條

聯絡我們