亞微米紫外掩膜對準系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2002年11月7日啟用。
基本介紹
- 中文名：亞微米紫外掩膜對準系統
- 產地：德國
- 學科領域：物理學、材料科學
- 啟用日期：2002年11月7日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
曝光光源：UV300；光源波長：365nm；光源均勻性：3.1%；晶片尺寸：2-6英寸；接觸方式：真空，低真空接觸, 硬接觸，軟接觸和接近式接觸；對準模式：正和背面兩種對準方式；最小線寬：0.5 μm；對準精度: ±0.5 μm。
主要功能
採用紫外光源，製作亞微米(最小線寬0.5 μm)的圖形。可用於各種微器件的製作和低維人工結構的形成，如製作下列器件結構：微電子器件，光電子器件，生物感測器，微機電系統，超導電子學器件，磁電子學器件等，也是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要輔助工具。
