無掩膜雷射直寫曝光系統

無掩膜雷射直寫曝光系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2017年12月14日啟用。

基本介紹

• 中文名：無掩膜雷射直寫曝光系統
• 產地：德國
• 學科領域：物理學、材料科學
• 啟用日期：2017年12月14日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

最大加工晶片尺寸：直徑230mm、厚6mm； 最大加工區域：200mm直徑的圓型區域； 工作檯最大行程- X軸250 mm； 滑座最大行程- Y軸250 mm； 主軸最大行程- Z軸15 mm； 可選雷射解析度：0.6,1.0 , 2.0, 4.0μm。

主要功能

雷射直寫曝光功能。