高速旋轉雷射直寫光刻機

高速旋轉雷射直寫光刻機是一種用於物理學、材料科學領域的科學儀器，於2014年11月28日啟用。

基本介紹

• 中文名：高速旋轉雷射直寫光刻機
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、材料科學
• 啟用日期：2014年11月28日

技術指標

雷射波長405 nm，解析度達100nm。

主要功能

通過雷射與材料的相互作用，調節樣品台旋轉及X軸運動速度，可以實現類光柵結構點線陣列、任意圖形和灰度圖形的雷射刻寫。