台式雷射直寫光刻機是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2018年12月03日啟用。
台式雷射直寫光刻機是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2018年12月03日啟用。技術指標1. 無需物理掩膜板 2. 解析度：1.0um 3. 直寫速度（mm2/min）：3@1um res 4. 邊緣粗糙度：優於20...
小型台式無掩膜光刻機Microwriter ML3，通過雷射直寫在光刻膠上直接曝光製作所需要的圖案，而無需掩膜版，專為實驗室設計開發，適用於各種實驗室桌面。技術特徵 Focus Lock自動對焦 Focus Lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測，並通過Z向調整和補償，以保證曝光解析度。直寫前預檢查 軟體可以實時顯微觀測...
雷射直寫光刻機是一種用於物理學、信息科學與系統科學、材料科學、機械工程領域的儀器，於2012年12月24日啟用。技術指標 設備採用高功率LED（λ：405nm）光源和全自動對焦、對準技術，長壽命、低功耗。採用專利技術的LED固體光源和高精密光柵尺定位工作平台，可實現0.65um的亞微米解析度光刻及0.6um的套刻精度。主...
高精雷射直寫光刻機是一種用於交通運輸工程領域的工藝試驗儀器，於2018年4月18日啟用。技術指標 1、 可實現最小線寬 1μm_x000D_ 2、 套刻對準精度 ≤ 0.5 μm_x000D_ 3、 採用360~375nm波段進口半導體固體雷射器，支持SU-8負型光刻膠_x000D_ 4、 真空吸附式裝載夾具，能夠滿足1～6英寸方形基片的...
高速旋轉雷射直寫光刻機 高速旋轉雷射直寫光刻機是一種用於物理學、材料科學領域的科學儀器，於2014年11月28日啟用。技術指標 雷射波長405 nm，解析度達100nm。主要功能 通過雷射與材料的相互作用，調節樣品台旋轉及X軸運動速度，可以實現類光柵結構點線陣列、任意圖形和灰度圖形的雷射刻寫。
台式雷射直寫光刻機是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2018年12月03日啟用。技術指標 1. 無需物理掩膜板 2. 解析度：1.0um 3. 直寫速度（mm2/min）：3@1um res 4. 邊緣粗糙度：優於200nm 5. 常規對準精度：2um，可視化對準精度：200nm。主要功能 製作圖形電極 製備半導體器件。
