高精雷射直寫光刻機是一種用於交通運輸工程領域的工藝試驗儀器,於2018年4月18日啟用。
基本介紹
- 中文名:高精雷射直寫光刻機
- 產地:德國
- 學科領域:交通運輸工程
- 啟用日期:2018年4月18日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備
高精雷射直寫光刻機是一種用於交通運輸工程領域的工藝試驗儀器,於2018年4月18日啟用。
高精雷射直寫光刻機是一種用於交通運輸工程領域的工藝試驗儀器,於2018年4月18日啟用。技術指標1、 可實現最小線寬 1μm_x000D_ 2、 套刻對準精度 ≤ 0.5 μm_x000D_ 3、 採用360~375nm...
雷射直寫光刻機是一種用於物理學、信息科學與系統科學、材料科學、機械工程領域的儀器,於2012年12月24日啟用。技術指標 設備採用高功率LED(λ:405nm)光源和全自動對焦、對準技術,長壽命、低功耗。採用專利技術的LED固體光源和高精密...
小型台式無掩膜光刻機Microwriter ML3,通過雷射直寫在光刻膠上直接曝光製作所需要的圖案,而無需掩膜版,專為實驗室設計開發,適用於各種實驗室桌面。技術特徵 Focus Lock自動對焦 Focus Lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測...
雷射直寫光刻系統是一種用於物理學、電子與通信技術領域的工藝試驗儀器,於2015年4月17日啟用。技術指標 雷射波長405納米,最高解析度0.6微米,最大樣品尺寸:8英寸。主要功能 與通過物理掩模板進行光照的傳統工藝不同,雷射直寫是通過...
高精度光刻系統 高精度光刻系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2018年09月03日啟用。技術指標 解析度小於0.8μm。主要功能 集成光電器件製造工藝中圖形的掩膜對準、紫外曝光和納米壓印光刻。
高速旋轉雷射直寫光刻機是一種用於物理學、材料科學領域的科學儀器,於2014年11月28日啟用。技術指標 雷射波長405 nm,解析度達100nm。主要功能 通過雷射與材料的相互作用,調節樣品台旋轉及X軸運動速度,可以實現類光柵結構點線陣列、...
台式雷射直寫光刻機是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器,於2018年12月03日啟用。技術指標 1. 無需物理掩膜板 2. 解析度:1.0um 3. 直寫速度(mm2/min):3@1um res 4. 邊緣粗糙度:優於200nm 5. 常規對準精度:2um,...
(1) 掌握紫外高速雷射直寫光刻機的基本工作原理和直寫操作方法。(2)熟練掌握紫外高速雷射直寫光刻工藝的全過程。(3) 掌握無掩膜光刻實驗過程中的安全事項和關鍵參數設定,為真實的光刻實驗提供最佳化的參數,指導實際的實驗操作,實現虛實...