高精度光刻系統

高精度光刻系統是一種用於物理學領域的工藝試驗儀器，於2018年09月03日啟用。

基本介紹

• 中文名：高精度光刻系統
• 產地：奧地利
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2018年09月03日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

解析度小於0.8μm。

主要功能

集成光電器件製造工藝中圖形的掩膜對準、紫外曝光和納米壓印光刻。