超高真空鍍膜機是一種用於數學領域的分析儀器，於2005年10月1日啟用。
基本介紹
- 中文名：超高真空鍍膜機
- 產地：美國
- 學科領域：數學
- 啟用日期：2005年10月1日
- 所屬類別：分析儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
本底真空度：優於1.0×10-10Torr，最高加熱溫度：800 ℃。
主要功能
製備高質量超薄金屬薄膜，如0.3nm厚的鈷。
超高真空鍍膜機
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