脈衝雷射分子束外延系統

脈衝雷射分子束外延系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2015年10月22日啟用。

基本介紹

• 中文名：脈衝雷射分子束外延系統
• 產地：德國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2015年10月22日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

TSST-PLD/PVD複雜氧化物薄膜材料的單層沉積，實現包括金屬，氧化物和半導體夜舟腿笑材料的多材料，多組分沉積。

主要功能

PLMBE是將雷射聚焦於靶材上一個較小的面積，利用雷射的高能量密度將部分靶材料蒸發甚至電離，使其能夠脫離靶材而向基底運動，進而在基底上沉積，從而形成薄膜的一種方式。 在地犁眾多的薄膜製備方法中，脈衝雷射分子束外延辨陵煮嬸具有能保證靶材元素成分，實現複雜化合物薄膜沉積及異質結外延的特點，可用來製備金境潤灶屬、半導體、氧化物、氮化物挨鞏祝、碳化物、硼化物、矽化物、硫化物及氟化物等各種物質薄膜，甚至還用來充霸勸製備一些難以合成的材料膜，如金剛石、立笑膠拳方氮化物膜等。