超高真空雷射分子束外延系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2013年11月21日啟用。
基本介紹
- 中文名:超高真空雷射分子束外延系統
- 產地:荷蘭
- 學科領域:物理學、材料科學
- 啟用日期:2013年11月21日
- 所屬類別:工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備
技術指標,主要功能,
技術指標
RHEED振漿朽洪盪墊擔。
主要功能
可提供多種氧化物整芝歡嫌企說遙單晶危訂潤薄膜製備,永牛應並實現原位金屬牛滲習元電極沉積。
超高真空雷射分子束外延系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器,於2013年11月21日啟用。
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開發包括各類控制器、精密放大器、束源爐、低溫恆溫器等在內的一批核心關鍵部件,並先後主持或核心參與研製搭建了各類真空系統十餘台套,包括掃描探針顯微鏡系統、分子束外延系統、雷射分子束外延系統、原子層沉積系統等。
主要設備:石墨烯CVD系統、超高真空石墨烯外延系統、分子束外延系統(MBE)、雷射分子束外延系統等。人物經歷 2001年6月獲四川大學材料學博士學位,2001.7月-2005.1先後在中科院物理研究所、台灣清華大學從事博士後研究,2005.3-2008.5...