雷射分子束外延真空腔體是一種用於信息科學與系統科學領域的工藝試驗儀器，於2014年12月17日啟用。
基本介紹
- 中文名：雷射分子束外延真空腔體
- 產地：日本
- 學科領域：信息科學與系統科學
- 啟用日期：2014年12月17日
- 所屬類別：工藝試驗儀器 > 汽車工藝實驗設備 > 紅外線汽車排氣分析儀
技術指標,主要功能,
技術指標
外延室: 直徑500mm不鏽鋼球形腔體，裝配有靶組件、基片台等部件及多種視窗/觀察窗、接口、樣品傳遞（磁傳送桿） 外延室背底真空度：2 x 10-8Pa以上習墓 靶組件：最大可裝25.4mm（1英寸）*5mm靶材4塊，可制10mm*10mm外延基片歡汽達 靶材自轉頻率：0.5～5Hz 靶與基片間距調節範圍：35～95mm 基片台：基片旋轉：0～360°,0.2～5Hz，最高工作溫度：850℃ 紅外測溫儀：酷捉愚測溫範圍：300～1200℃ 靈敏度：0.1℃ 最小可測面積：Φ2mm 控制計算機：可建立照求陵160個用戶（每用戶可有40個靶系統硬體組態子目錄，每子目錄有40個RECIPE工作目錄，每RECIPE可有88個STAGE） RHEED計算機數據採集和處理系統：每次可採集存儲圖像抹戰棄8幅、強度振盪數據點60000個 數據採樣頻率：16個/秒、8個/秒、3個/秒項趨陵察、1個/秒 活性氣體裝置：工作氣壓範圍殃宙捆祖：1～5x10-3Pa 原子氧濃度：≥10%。
主要功能
雷射分子束外延是近十年來出現的高精密制膜技術，它綜合了脈衝雷射沉積和分子束外延的特點和優勢，可在高真空、超高真空條件下實現原位實時監控薄膜原子尺度層狀外延生長。適用於多種有機、無機薄膜的製備，尤其適宜於用其它制膜設備和方法難以製備的高熔點、多元素（特別是含有氣體元素時）、複雜層狀結構的薄膜和超晶格的製備，並可同時進行雷射與物質相互作用及成膜過程的物理、化學觀測。
