聚焦離子束系統

聚焦離子束系統

聚焦離子束系統是一種用於物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的核儀器,於2002年1月1日啟用。

基本介紹

  • 中文名:聚焦離子束系統
  • 產地:美國
  • 學科領域:物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
  • 啟用日期:2002年1月1日
  • 所屬類別:核儀器 > 離子束分析儀器
技術指標,主要功能,

技術指標

電子束解析度(Resolution):3 nm@1 KV,3 nm @30 KV;離子束解析度:7 nm@30 KV;沉積金屬鉑(Pt);金屬和非金屬增強刻蝕。 沉積金屬線條最細優於40nm;刻蝕線寬最細優於20nm。 儀器主要功能(Functions):用離子束刻蝕、沉積(金屬)、亞微米級線條和圖形;電子束曝光技術進行微結構加工;用電子束對加工過程進行實時觀測。

主要功能

儀器主要功能(Functions): (1)用離子束刻蝕、沉積(金屬)納米級線條和圖形。

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