聚焦離子束系統

聚焦離子束系統是一種用於物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的核儀器，於2002年1月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：聚焦離子束系統
• 產地：美國
• 學科領域：物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學
• 啟用日期：2002年1月1日
• 所屬類別：核儀器 > 離子束分析儀器

技術指標

電子束解析度（Resolution）：3 nm@1 KV，3 nm @30 KV；離子束解析度：7 nm@30 KV；沉積金屬鉑（Pt）；金屬和非金屬增強刻蝕。 沉積金屬線條最細優於40nm；刻蝕線寬最細優於20nm。 儀器主要功能（Functions）：用離子束刻蝕、沉積（金屬）、亞微米級線條和圖形；電子束曝光技術進行微結構加工；用電子束對加工過程進行實時觀測。

主要功能

儀器主要功能（Functions）： (1)用離子束刻蝕、沉積(金屬)納米級線條和圖形。