聚焦離子束顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2016年01月08日啟用。
聚焦離子束掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學、化學、物理學、航空、航天科學技術領域的分析儀器，於2013年10月21日啟用。技術指標 SEM 解析度：高真空：3.0nm（30kV）；10nm（3kV） 低真空：4.0nm（30kV） 放大倍數: 5-300,000 ...
聚焦離子束顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2016年01月08日啟用。技術指標 加速電壓：0.5kV-30kV射束電流：1.1pA-65nA圖像解析度：4.5nm。主要功能 V400ACE™ 聚焦離子束（FIB）系統採用了離子鏡筒設計、氣體輸送和端點...
聚焦離子束電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器，於2014年6月1日啟用。技術指標 電子束解析度(Electron beam resolution)：0.9 nm@15kV，1.4nm@1kV 離子成像解析度(Ion beam resolution)：4nm@30kV。主要功能 Elstar ...
在新型的聚焦離子束顯微鏡，已出現的雙束（Dual Beam）的機型（離子束+電子束），在以離子束切割時，用電子束觀察影像，除了可避免離子束繼續 "破壞現場" 外，尚可有效的提高影像解析度，同時也可配備X-光能譜分析儀或二次離子質譜儀...
電子束聚焦離子束雙束電子顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器，於2015年4月30日啟用。技術指標 (1)電子束解析度 1、高真空：1nm 30kV (二次電子)； 2.5 nm 30kV (背散射電子)；1.5 nm 15kV (二次電子)； 2.9...
雙束場發射聚焦離子束及掃描電子顯微鏡是一種用於物理學、化學、材料科學、電子與通信技術領域的分析儀器，於2014年2月27日啟用。技術指標 電子束解析度：0.9nm，離子束解析度：4nm。主要功能 製備透射電鏡樣品。
電子-離子雙射束是一種用於地球科學領域的分析儀器，於2017年7月24日啟用。技術指標 聚焦離子束顯微鏡(Focused Ion beam, FIB)的系統是利用電透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸的顯微切割儀器，當離子束打到樣品表面上的時候，會產生一些二...
i。nmieroprobemassanal-yzer測量固體表面微區組成的一種質譜分析儀器。利用聚焦好的一次離子束作為“探針”，轟擊固體表面濺射出原子及分子的二次離子，由質譜儀檢測其質量電荷比，並顯示離子圖象。分析從氫到鈾的所有元素及其同位素。分類...
二、離子束曝光的特點 三、掩模離子束曝光 四、投影離子束曝光 五、掃描離子束曝光 六、小結 第五節 掃描離子顯微鏡和二次離子質譜儀 一、掃描離子顯微鏡(SIM)二、FIB/SIMS系統 參考文獻 第八章 國外先進的聚焦離子束裝置 第一節 ...
世界上最小的磁鐵；分形納米樹（Fractal nanotrees）；納米環（潛在的納米超導量子干涉儀裝置）；超導納米線。相關條目 電子顯微鏡 聚焦離子束 金屬羰基配合物 茂金屬 有機金屬化學 掃描電子顯微鏡 透射電子顯微鏡 掃描透射電子顯微鏡 ...
Helios Nanolab G3 UC 是目前世界上非常先進的用於細胞、組織等生物樣品成像的掃描雙束電子顯微鏡：（1）具有Dual Beam—場發射掃描電子雙束（SEM）和聚焦離子束（Focused Ion Beam, FIB）：藉助Dual Beam，FEI AutoSlicerViewer軟體可...
掃描電鏡和聚焦離子束顯微加工系統等高端分析表征設備。人才培養 重慶大學電子顯微鏡中心擁有一支以國家級人才為學術帶頭人、海外歸國人員為骨幹的高端電子分析表征人才隊伍，形成高級專家、技術負責人和工程師的設備開發套用管理梯隊。
其基本功能可概括為: 定點切割, 選擇性的材料蒸鍍,強化性蝕刻或選擇性蝕刻, 蝕刻終點偵測。在透射電鏡試樣製作方面，聚焦離子束顯微鏡是一個優越的手段，能在較短的時間內與高成功率完成。
本項目擬用脈衝雷射沉積法在不同的基片和緩衝層上製備不同的外延方向、不同的應力狀態的TbMnO3薄膜，以聚焦離子束-電子束組成的雙束納米加工系統為主要操控手段，系統研究Ga離子注入、電子注入、納米尺度等因素引起TbMnO3薄膜阻變效應的...
目前，電子顯微鏡的放大倍數可達100萬倍以上。通常使用的電子顯微鏡分為透射式和掃描式兩種。有些特殊顯微鏡還利用質子束、X射線或正離子束代替電子束以獲得放大影像。電子顯微鏡已廣泛用於病毒、蛋白質、分子、金屬表面和物質結構的研究。
本項目研究注入離子能量、質量、入射角度和劑量等物理參數對生物靶材料濺射產額的影響，在離子束濺射與生物靶材料表面之間相互作用模擬基礎上，利用SEM、STM和雷射共聚焦顯微鏡等觀察低能離子輻照後靶細胞損傷形貌、範圍等變化以及濺射對活體...
離子束蝕刻套用的另一個方面是蝕刻高精度圖形，如積體電路、光電器件和光集成器件等征電子學構件。太陽能電池表面具有非反射紋理表面。離子束蝕刻還套用於減薄材料，製作穿透式電子顯微鏡試片。2.離子束鍍膜加工：離子束鍍膜加工有濺射沉積...
2.3.4 聚焦離子束方法 參考文獻 第三章 電子衍射 3.1 電子衍射與x射線衍射的 較 3.2 衍射產生的條件 3.2.1 幾何條件 3.2.2 物理條件 3.3 電子衍射幾何分析公式及相機常數 3.3.1 電子衍射儀 的衍射 3.3.2 透射...
FEI 的雙束 (DualBeam) 儀器結合了聚焦離子束工具的銑蝕功能和掃描電子顯微鏡的成像能力與分辨力。 這些尖端儀器是三維顯微學和材料表征分析、工業故障分析以及工藝控制套用的首選解決方案。 這些儀器旨在為高產量半導體與數據存儲製造行業...
常見的光學顯微鏡如大視場的光學或螢光顯微鏡、雷射共聚焦顯微鏡、定位顯微鏡、低溫冷凍光鏡等都可以和電子顯微鏡如掃描電鏡、透射電鏡、聚焦離子束/掃描電鏡雙系統、低溫冷凍透射/掃描電鏡等來配合使用。在利用電子顯微鏡成像之前，多先利用...
然後轉移至顯微鏡下進一步拋光，酸液換較低濃度，陰極為一直徑5mm左右的鉑金環。直至尖端拋至100nm以下。對於不導電樣品以及特殊樣品的定位制樣（定位製取晶界及析出相等樣品），通常使用聚焦離子束（Focus ion beam）技術進行加工，通過納米...
本申請將通過納米壓痕、原子力顯微鏡和聚焦離子束技術,對多因素耦合下表面和界面斷裂失效行為及機理進行微納尺度下的原位觀察研究，擬達到如下目標: 1、弄清不同溫度下水分子在裂紋尖端、膜基界面的活化作用；2、弄清內應力、外載入荷...
採用該中心的聚焦離子束，製造了結構微小的透鏡模具。聚焦離子束採用高放電原子粒子在顯微鏡下進行材料加工。MEC中心的羅伯特霍伊爾表示，這是一項極為複雜的挑戰。不只是鏡頭本身的曲率要求很精確，表面的納米視覺結構（nanoscopicstructures）也...
為了與納米器件[36]或者元件實現電接觸，必需提供相應的夾具、顯微鏡和探針系統[37]。當今的納米研究者正在使用諸如原子力顯微鏡、掃描電子顯微鏡和聚焦離子束工具等手段來實現器件的可視化、對其執行機械測量並進行I－V特性測量[38]。要實現...
