聚焦離子束掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學、化學、物理學、航空、航天科學技術領域的分析儀器，於2013年10月21日啟用。
基本介紹
- 中文名：聚焦離子束掃描電子顯微鏡
- 產地：日本
- 學科領域：材料科學、化學、物理學、航空、航天科學技術
- 啟用日期：2013年10月21日
- 所屬類別：分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
技術指標,主要功能,
技術指標
SEM 解析度：高真空：3.0nm（30kV）；10nm（3kV） 低真空：4.0nm（30kV） 放大倍數: 5-300,000 加速電壓：0.3-30kV多種步進調壓方式 FIB 1 主要參數： (加速電壓 40 kV) 圖像解析度 6 nm 最大束流強度 60 nA 或更高 最大束流密度 50 A/cm2或更高 放大倍率 (顯示倍率) 60X 至 300,000X 2 離子光學： 離子源 Ga 束流光闌 馬達驅動控制 透鏡/偏轉電極 2級靜電式透鏡/8級靜電式偏轉電極 沉積膜 2種氣體源（鎢和碳） 加速電壓： 40 kV (max.) (10, 15, 20, 25, 30, 35, 40 kV可選) 最小離子束直徑： 小於6 nm (加速電壓40kV下)。
主要功能
各種材料形貌觀察和分析，如金屬、半導體、陶瓷、高分子材料、有機聚合物等;材料微納結構的樣品製備，包括：SEM線上觀察下製備TEM樣品、材料微觀截面截取與觀察、樣品微觀刻蝕與沉積等.。
