離子束濺射系統

離子束濺射系統是一種用於材料科學領域的工藝試驗儀器，於2014年06月25日啟用。

基本介紹

• 中文名：離子束濺射系統
• 產地：中國
• 學科領域：材料科學
• 啟用日期：2014年06月25日
• 所屬類別：工藝試驗儀器

技術指標

×1、 濺射離子源（聚焦束考夫曼源） 加速能量0.5k~3KeV 束流0～150mA 氣流量：0～10sccm 最大離子束流密度：15mA/㎝2 工作真空1～2×10-2Pa 出口束徑≥Φ80㎜ 中和方式為燈絲中和 離子能量和束流獨立連續可調。 2、 輔助離子源（考夫曼平柵離子源） 加速能量100~1000eV 束流0～150mA 氣流量：0～10sccm N2 O2 Ar 出口束徑≥Φ120㎜ 均勻區＞Φ200㎜，不均勻性±5% 工作真空1～2×10-2Pa 離子能量和束流獨立連續可調。 3、真空室極限真空4×10-4Pa （真空度可否提高？） 4、真空室恢復真空3×10-3Pa，時間≤40min。

主要功能

×用於金屬、非金屬等器件的高質量鍍膜。