離子束濺射高通量薄膜製備系統是一種用於材料科學領域的分析儀器，於2018年11月12日啟用。
基本介紹
- 中文名：離子束濺射高通量薄膜製備系統
- 產地：中國
- 學科領域：材料科學
- 啟用日期：2018年11月12日
- 所屬類別：分析儀器 > 樣品前處理及製備儀器
技術指標,主要功能,
技術指標
基片尺寸1英寸~3英寸可選。 可旋轉角度及精度0-360度精度0.2度。3、薄膜成分分布及解析度：成分0~100%可控、主要成分的空間解析度+/-0.1%。4、膜厚均勻性1英寸範圍內，膜厚200nm時，優於正負5%。
主要功能
特點： 利用離子束濺射系統可製備多元合金薄膜，在鍍膜均勻前提下，通過薄膜厚度的控制，實現成分連續線性分布，成分範圍0-100%可控，解析度可達到0.1%。系統針對3元合金體系進行最佳化,實現高效的三元合金體系薄膜製備，並進行可控的退火處理。
