等離子化學氣相澱積台

等離子化學氣相澱積台是一種用於信息與系統科學相關工程與技術領域的工藝試驗儀器，於2013年11月15日啟用。

基本介紹

• 中文名：等離子化學氣相澱積台
• 產地：英國
• 學科領域：信息與系統科學相關工程與技術
• 啟用日期：2013年11月15日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體積體電路工藝實驗設備

技術指標

SiO2生長速率 40 nm/min；SiO2不均勻性±10% 。

主要功能

沉積SiNx和SiO2。