掃描近場顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2014年07月01日啟用。
基本介紹
- 中文名:掃描近場顯微鏡
- 產地:中國
- 學科領域:材料科學
- 啟用日期:2014年07月01日
- 所屬類別:分析儀器 > 電子光學儀器 > 掃描電鏡
掃描近場顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2014年07月01日啟用。
掃描近場顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2014年07月01日啟用。技術指標1\探針掃描的工作方式和精度 ? 具有樣品掃描工作模式(即樣品台掃描方式),探針與樣品間距採用音叉式輕敲方式控制,具有自動進針功能 ?...
掃描近場光學顯微鏡(scanning near-field optical microscope)是2012年公布的微生物學名詞。定義 一類有掃描功能的光學顯微鏡,將探測器放置在離樣品表面大大小於光波波長的距離掃描成像,即可突破遠場的解析度極限,獲得高的空間、譜學及時間分辨力的顯微鏡。可用於樣品表面納米結構觀測。出處 《微生物學名詞》第二版。
近場光學顯微是由探針在樣品表面逐點掃描和逐點記錄後數字成像的。圖1是一種近場光學顯微鏡的成像原理圖。圖中x-y-z粗逼近方式可以用幾十納米的精度調節探針至樣品的間距;而x-y掃描及z控制可用1nm精度控制探針掃描及z方向的反饋隨動。圖中的入射雷射,通過光纖引入探針,並可根據要求改變入射光的偏振態。當...
近場掃描光學顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2017年06月09日啟用。技術指標 正置和倒置光學底座; 掃描範圍:90*90微米; 工作模式:透射、收集、反射、針尖增強拉曼; 光學信號探測模式:光強、螢光、光譜。主要功能 表面形貌、電學性質、磁學性質、近場光學性質、力學性質、納米刻蝕及操縱、定性...
行程:X=60mm, Y=15mm, Z=8mm · 位移最小精度100nm,位移速度最高10mm/s · 樣品Z 軸精細位移台 · Z 軸精細位移行程:3µm · RMS 受限於噪聲的解析度:0.2nm, 1.5-150Hz 樣品X-Y掃描器 · 100µm x 100µm X-Y閉環掃面範圍 · 電容式位置感測器 正置光學顯微鏡 · 超長工作距離:...
目前得到學術界認可的近場光學顯微鏡是基於掃描探針顯微技術的,將孔徑較小的光纖探針粘附在音叉上,利用音叉感知樣品與探針之間的距離,並對這個距離進行控制,即可同時滿足近場光學顯微鏡兩個要求:小孔和微距。然而,通過上述方法得到近場光學圖像的解析度比較難於突破光的衍射極限,得到的較好的解析度一般在幾百納米,...
超快共焦掃描近場顯微鏡是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2014年12月12日啟用。技術指標 光譜儀:300mm焦距,f/4;通光量 70%;600g/mm和1800g/mm光柵.x、y、z方向自動樣品定位最大樣品高度:10mm(對於更高的樣品可以選擇相應配件),PZT掃描台,掃描範圍200x200x2um;掃描準確度4x4x0.5nm; ...
近場光學顯微鏡的主要目標是獲得與物體表面相距小于波長K的近場信息, 即隱失場的探測。雖然已經出現了許多不同類型的近場光學顯微儀器, 但它們有一些共同的結構。如同其他掃描探針顯微鏡( STM、AFM…), 近場光學顯微鏡包括: ( 1)探針,(2) 信號採集及處理,(3)探針-樣品間距 z-的反饋控制,(4) x-y ...
《掃描近場光學顯微鏡和納米光學測量》是2016年科學出版社出版的圖書,作者是王佳、武曉宇、孫琳。內容簡介 掃描近場光學顯微鏡能夠突破光學衍射極限實現超分辨成像,因此成為納米光學測量中最重要的工具之一。本書首先對近場光學的基本概念和探測原理進行概述,然後對近場光學顯微鏡的分類、工作原理、功能模組、關鍵技術、...
《近場掃描光學顯微鏡光纖探針及其近場光學的研究》是依託中國科學技術大學,由明海擔任項目負責人的面上項目。中文摘要 用局域模理論和實驗上研究了掃描近場光學顯微鏡(SNOM)的傳輸效率與孔徑尺寸,探針形狀,製作方法,照明波長之間關係;光纖探針的反射特性。用邊界衍射波理論分析近場衍射中的偏振效應,通過數值計算...
for an attocube system microscope for 600nm module to fit into an ARC casing.。主要功能 掃描近場光學顯微鏡基於音叉切變力探測體系,通過直接接近樣品表面的方法對一個亞波長尺度的光圈進行掃描。 主要附屬檔案及功能: Attocube相關係統;位置控制台和基於壓電石英音叉的力學探測器; 強磁場源及Lakeshore磁場控制器。
太赫茲近場掃描顯微系統 太赫茲近場掃描顯微系統是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2017年11月17日啟用。技術指標 TP800-SNTM。主要功能 太赫茲態分析。
近場光學技術 近場光學技術最早是 H Synge 在1928 年提出的一種近場成像概念設計:入射光透過 10nm 的小孔 ,照射相距 10nm 的樣品,以 10nm 步長掃描,同時收集微小照明區的光學信號,這樣就能夠克服衍射極限 ,獲得超高光學解析度。如圖1所示。在近場光學顯微鏡 (或稱掃描近場光學顯微鏡———scanning near2field...
《用雙色螢光近場顯微技術研究細胞信息的跨膜傳遞》是依託清華大學,由王剛擔任項目負責人的青年科學基金項目。項目摘要 建立一套適合於進行細胞膜信息傳遞功能研究的掃描近場光學顯微鏡,採用雙色螢光探測技術,高速掃描結構及適於在液體環境下工作的探頭控制機制,可實現對膜上受體分子的活體動態探測,並可研究它與刺激...
1.能夠實現掃描近場光學顯微鏡、原子力顯微鏡的探測、成像,可用於對樣品的微區表面近場光學信息、納米尺度形貌等的檢測以及微納表面結構加工技術研究。 2.具備掃描近場光學顯微鏡的多種工作模式,如:SNOM收集模式和剪下力模式等; 3.具有原子力顯微鏡的常用工作模式,如:接觸模式、半接觸模式、非接觸模式、摩擦力...
最大樣品大小直徑大於120mm,樣品粗調不小於20mm用於飛秒的探針空間解析度優於100nm,可以將390nm~980nm的飛秒雷射耦合至近場局域進行局域激發,確保800nm的飛秒展寬不超過20%。光學損傷閾值大於等於1GW/cm2。主要功能 實現樣品的表面形貌、光學及其光譜的表征,包括共焦顯微鏡成像,原子力成像和近場掃描光學成像。
掃描共聚焦拉曼與多場聯用系統是一種用於物理學、材料科學、化學領域的分析儀器,於2018年12月11日啟用。技術指標 1.共聚焦拉曼顯微系統(1)焦長≥300nm;(2)光譜解析度:≤1.5cm-1,重複性≤0.02 cm-1;(3)CCD探測器每點最短積分時間≤10ms。2.掃描近場光學顯微鏡:波長範圍回響:350-1000nm,探針近場...
低溫強磁場掃描近場微波阻抗顯微譜儀是一種用於信息科學與系統科學、材料科學、物理學領域的分析儀器,於2018年11月26日啟用。技術指標 空間分辨: 10 nm 室溫掃描面積: 50um×50um 低溫掃描面積 40 um×40um 微波頻段: 3 GHz 溫度範圍: 4 - 300K 磁場範圍: -9T - 9T。主要功能 該設備以微波作為信號源,...
多光子掃描顯微鏡 多光子掃描顯微鏡是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2015年12月15日啟用。技術指標 多光子掃描顯微鏡FVMPE-RS。主要功能 多光子掃描顯微鏡。
對照研究計畫要點,課題組執行項目期間首先完成了搭建以雙壓電陶瓷片力感測器為核心的掃描探針顯微成像系統;並與倒置光學顯微鏡相結合以實現探針/樣品的觀測及定位;實現了系統掃描成像與光譜儀同步的控制方法。然後,作為成像系統的關鍵技術之一,課題組著重對系統的掃描定位方法開展了研究;基於組合式三維掃描方式,完成了...
目前實現高空間解析度的光譜與光譜成像的技術分為兩類:1.運用掃描近場光學顯微鏡與近場光譜,將納米尺度微光學探針掃描而同時得到樣品的形貌和微區光譜,空間解析度達幾十納米。2.利用掃描共焦顯微鏡測定光譜,空間解析度受到衍射極限的制約,為300納米以上,適用於相距較遠的單個納米粒子光譜或低濃度樣品的單分子螢光...
掃描探針顯微鏡(SPM)/原子力顯微鏡(AFM)掃描近場光學顯微鏡(SNOM/NSOM)原子顯微鏡(AFM)/掃描近場光學顯微鏡(SNOM/NSOM)/共聚焦拉曼(Confocal Raman)聯用系統 納米壓印(納米壓印設備、納米壓印膠、納米壓印模板、納米微加工)光學輪廓儀/探針式輪廓儀(台階儀)光學顯微鏡 全光纖研發平台 儀器耗材 SPM探針等...
第5章 納米糰簇的掃描探針顯微術 Lifeng Chi,Christian Rothig 5.1 引言 5.2 技術基礎 5.3 實驗方法和數據解釋 5.3.1 STM/STS 5.3.2 掃描力顯微鏡 5.3.3 掃描近場顯微鏡 5.4 納米材料表征的套用 5.4.1 單個納米糰簇 5.4.2 二維排列納米糰簇結構 5.4.3 基於SPM的金屬...
10.5.1掃描隧道顯微鏡的基本原理與系統結構 10.5.2掃描隧道顯微鏡的功能 10.5.3掃描隧道顯微鏡設計的主要考慮因素 10.5.4掃描隧道顯微鏡的新發展與套用 10.6原子力顯微鏡 10.6.1AFM的基本硬體組成 10.6.2AFM的工作原理 10.6.3AFM的工作模式 10.6.4AFM在力學測量中的套用 10.7掃描近場光學顯微鏡 10.7...