可變真空掃描電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器，於2011年4月20日啟用。
可變真空掃描電子顯微鏡是一種用於電子與通信技術領域的分析儀器，於2011年4月20日啟用。技術指標1、解析度：二次電子探測器3.0nm（30kV），15.0nm（1kV），背散射電子探測器4.0nm（30kV）2、放大倍...
高低真空掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學、冶金工程技術領域的分析儀器，於2005年5月20日啟用。技術指標 高真空模式解析度：3.0nm；低真空模式解析度：4.0nm；放大倍數：×5_×300,000；探測器：二次電子探測器、高靈敏度半導體探測器；圖像種類：二次電子像、背散射電子像（成分像、拓撲像、立體像）。主要功能...
超高真空掃描探針顯微鏡是一種用於材料科學、物理學領域的分析儀器，於2011年12月15日啟用。技術指標 工作溫度為室溫，樣品粗定位範圍＞6 mm×6 mm，單管掃描範圍＞6 μm×6 μm×2 μm。STM模式下可實現Si（1 1 1）和Au（1 1 1）表面的原子分辨；AFM接觸模式下可實現雲母和Au（1 1 1）表面的原子分辨...
超低溫超高真空掃描探針顯微鏡是一種用於物理學領域的分析儀器，於2013年3月5日啟用。技術指標 ：(1). 工作溫度：5K-300K，具有原子解析度(垂直小於0.01nm，面內小於0.1nm)， 掃描範圍：大於2微米x 2微米(室溫下)。 (2). 原位光學聚焦透鏡，原位光纖系統，原位磁場2T。 (3). 樣品生長分析腔：可變溫的樣品...
主要作用是觀測已經生長好的樣品。而。主要功能 在超高真空中，對襯底進行加熱或者冷卻的條件下，利用分子束外延的方法製備薄膜樣品，並且利用掃描探針顯微鏡在超高真空-低溫-光學照射或收集的環境中對已經製備的薄膜和納米結構的形貌和電子結構進行測量。1K冷台上有加熱絲，使用液氦時能夠實現2.5K至80K的變溫操作。
超高真空低溫掃描探針顯微鏡是一種用於化學領域的分析儀器，於2017年4月28日啟用。技術指標 真空：1×10-10 mbar。最低工作溫度：5 K。溫度穩定性：10 mK。可變溫度範圍：5K-300K。液氦消耗量：小於0.1L/小時 (5K)。掃描範圍：1 μm ×1 μm×0.1 μm (5K)。熱漂移：0.2 nm/小時。振動噪音：2 pm...
超高真空變溫掃描隧道顯微鏡是一種用於物理學、化學、材料科學領域的計量儀器，於2015年10月9日啟用。技術指標 超高真空低溫下實現分子量子體系的高空間分辨成像；STS譜測量；可以在室溫、液氮和液氦等溫度區間工作。STM空間分辨：0.1 nm（XY向），0.05nm（Z向）；STM掃描範圍：4μm（RT），1μm（5K）；溫度...
低真空掃描電子顯微鏡 低真空掃描電子顯微鏡是一種用於材料科學、航空航天領域領域的科學儀器，於1999年6月1日啟用。技術指標 1.SEM解析度：3.5nm； 2.EDS解析度：131.7ev。主要功能 對各種固體材料的表面進行表面形貌的觀察和元素組成分析。
超高真空低溫掃描隧道顯微鏡系統是一種用於物理學領域的計量儀器，於2016年3月18日啟用。技術指標 樣品最低溫度:4.543k；液氦溫度工作時間53.5小時以上；針尖粗調定位範圍：橫向±2.5mm×±2.5mm，縱向10nm；針尖定位穩定性：漂移值為0.11nm/h；Z通道噪音：2.938pm；最小遂穿電流：1pA；STM腔/制樣室真空度...
超高真空低溫拉曼掃描隧道顯微鏡是一種用於物理學領域的計量儀器，於2019年12月6日啟用。技術指標 低溫：2 K；解析度：原子分辨；超高真空 10-11 Torr；雷射波長：532 nm；雷射解析度：5 nm；成像光譜儀解析度：0.1 nm。主要功能 表面結構表征；電學性質的表征；晶體結構中電子聲子相互作用的測量。
主要功能 ·用小角度最小可為0°進行單面或雙面減薄，製備TEM試樣。 ·製備掃描電鏡和光學顯微鏡樣品 ·表面清洗 ·為增強襯度而進行表面減薄 ·可加工樣品的最大直徑為25mm ·45°～90°傾角的減薄可以研究截面結構 ·用各種靶材對SEM或TEM樣品進行原位噴鍍 ·為掃描電鏡、光學顯微鏡，透射電鏡提供各種樣品台。
