光學鄰近效應 (Optical Proximity Effect, OPE)是由於部分相干成像過程中的非線性空間濾波,像強度頻譜的能量分布和位相分布相對理想像頻譜有一定畸變,並最終大大降低了成像質量,即引發光學鄰近效應。
基本介紹
- 中文名:光學鄰近效應
- 外文名:Optical Proximity Effect,OPE
- 所屬學科:物理學
- 所屬領域:光學
光學鄰近效應 (Optical Proximity Effect, OPE)是由於部分相干成像過程中的非線性空間濾波,像強度頻譜的能量分布和位相分布相對理想像頻譜有一定畸變,並最終大大降低了成像質量,即引發光學鄰近效應。
光學鄰近效應 (Optical Proximity Effect, OPE)是由於部分相干成像過程中的非線性空間濾波,像強度頻譜的能量分布和位相分布相對理想像頻譜有一定畸變,並最終大大降低...
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這時,光刻工藝解析度的提高完全依賴於所謂的解析度增強技術,包括最佳化光照條件使得圖形的解析度達到最佳、光學鄰近效應修正和添加曝光輔助圖形。2010年左右出現的光照條件...
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光學鄰近效應修正(optical proximity collection)光刻材料研發和評估;勻膠顯影設備(track)研發韋亞一代表論著 編輯 Advanced processes for 193nm immersion lithography,...
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所謂RET是指採用移相掩模(PSM)、光學鄰近效應修正(OPC)等措施,進一步提高解析度。值得指出的是:現代曝光技術不僅要求高的解析度,而且要有工藝寬容度和經濟性,如在...
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相移掩模和光學鄰近效應校正光刻技術[J]. 光電工程, 2001, 28(1):1-5. 3. 彭力, 陳友篷, 尤春,等. 先進相移掩模(PSM)工藝技術[J]. 電子與封裝, ...
近年來為了提高曝光解析度,開發出了相移掩模和光學鄰近效應校正掩模。這些掩模的製造工藝比傳統掩模複雜得多 [2] 。參考資料 1. 韋亞一.超大規模積體電路先進光...
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7.7.4光學鄰近效應修正7.7.5二重圖形技術7.7.6浸沒式光刻7.7.7極紫外光刻參考文獻第8章乾法刻蝕8.1引言8.1.1等離子刻蝕...