邊緣放置誤差(Edge Placement Error, EPE)是光刻軟體仿真出的曝光後光刻膠圖形邊緣與設計圖形之間的差。
基本介紹
- 中文名：邊緣放置誤差
- 外文名：Edge Placement Error
- 英文縮寫：EPE
邊緣放置誤差(Edge Placement Error, EPE)是光刻軟體仿真出的曝光後光刻膠圖形邊緣與設計圖形之間的差。
套用
邊緣放置誤差是用來衡量光學鄰近修正質量的指標，邊緣放置誤差小意味著曝光後的圖形和設計圖形接近。修正軟體在運行時移動邊緣位置，並計算出對應的邊緣放置誤差。這個過程不斷反覆進行直到計算出的邊緣放置誤差達到可以接受的值。為了減少邊緣移動的任意性，邊緣上點的位置只能在一個固定的柵格上移動。顯然，柵格越小，修正的精度越高，但運算量也就越大。更小的柵格修正還使得圖形邊緣更加零碎，增加掩模製造的成本。
圖1 邊緣放置誤差的定義
先進節點中的EPE
隨著特徵尺寸的縮減，邊緣放置誤差成為先進節點中圖形化的首要問題。在平面器件和單一化圖形的時代，光刻工藝工程師主要擔心兩個指標——CD均勻性和套刻誤差，為了測量這些指標，晶片製造商可能會使用CD-SEM或光學顯微鏡來測量特徵尺寸的CD，套刻誤差則由單獨的測量工具進行測量。接著把CD均勻性和套刻誤差這兩個單獨的量相加即可得到邊緣放置誤差的數值。
在先進節點，EPE的定義和測量變得更加複雜。通常EPE被分成了兩類，全局EPE和局部EPE。局部EPE是由工藝流程中的放置錯誤引起的；全局EPE則由以下問題引起——CD均勻性、套刻誤差、線邊粗糙度和線寬粗糙度。以前，EPE主要由光刻工藝中的套刻誤差造成的。而在先進節點中的其他工藝造成的影響也不可忽略。換句話說，製造廠中的任何工藝都可能對EPE產生影響。同時，設備廠需要更加複雜的設備和流程進行EPE的測量。
