韋亞一

韋亞一是一個博士研究員。

基本信息

姓 名: 韋亞一

性 別: 男

職 務: 課題負責人、02項目首席科學家

職 稱: 研究員

學 歷: 博士

通訊地址: 北京市朝陽區北土城西路3號

所屬部門：

積體電路先導工藝研發中心(十室)

簡歷

教育背景

1998畢業於德國馬普固體所/德國斯圖加特大學，獲理學博士學位

1992畢業於中國科學院電子學研究所，獲工學碩士學位

工作簡歷

2013年 – 至今： 中國科學院微電子研究所研究員、博士生導師；國家科技重大專項“300mm晶圓勻膠顯影設備”首席科學家（瀋陽芯源微電子設備公司）。

2009年 – 2013年： 美國格羅方德紐約研發中心光刻經理。

2007年 – 2008年： 美國安智公司新澤西研發中心，高級科學家(Senior Staff Scientist)。

2001年 – 2007年： 德國英飛凌公司美國紐約研發中心，高級工程師(Senior/Staff Engineer)。

1998年 – 2001年： 美國能源部橡樹嶺國家實驗室，博士後

研究方向

193nm浸沒式光刻工藝

光學鄰近效應修正（optical proximity collection）

光刻材料研發和評估；勻膠顯影設備（track）研發

代表論著

Advanced processes for 193nm immersion lithography， SPIE Press 2009

超大規模積體電路先進光刻理論與套用，科學出版社，2016