X射線單台衍射儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2011年5月3日啟用。
基本介紹
- 中文名:X射線單台衍射儀
- 產地:德國
- 學科領域:化學
- 啟用日期:2011年5月3日
- 所屬類別:分析儀器 > X射線儀器 > X射線衍射儀
X射線單台衍射儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2011年5月3日啟用。
X射線單台衍射儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2011年5月3日啟用。技術指標2.1 工作條件 2.1.1 工作電壓:AC 220V(±15%),50Hz,單相或AC 380V(±15%),50Hz,三相 2.1.2 ...
X射線衍射儀的英文名稱是X-ray Powder diffractometer簡寫為XPD或XRD。有時會把它叫做x射線多晶體衍射儀,英文名稱為X-ray polycrystalline diffractometer簡寫仍為XPD或XRD。原理 x射線的波長和晶體內部原子面之間的間距相近,晶體可以作為X...
X射線單晶體衍射儀(X-ray single crystal diffractometer)。本儀器分析的對象是一粒單晶體,如一粒砂糖或一粒鹽。在一粒單晶體中原子或原子團均是周期排列的。將X射線(如Cu的Kα輻射)射到一粒單晶體上會發生衍射,由對衍射線的分析...
X衍射儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2013年3月1日啟用。技術指標 角度重現性,±0.0001o;測角準確度,0.0025o;探測器最大技術率,>4×106 cps;99%線性範圍,>106 cps;最小背景,<0.2 cps;小角粒度測量範圍...
X射線單晶衍射儀是一種用於化學、藥學領域的分析儀器,於2009年6月25日啟用。技術指標 高解析度:映象面積62mm×62mm,4K CCD晶片,面積大容量高,象素解析度高:15µm×15µm, 高靈敏度:CCD探頭無束錐,1:1耦合,光線透過率...
X光衍射儀是一種用於材料科學、電子與通信技術領域的分析儀器,於2008年10月15日啟用。技術指標 高壓發生器功率:3KW;電流60mA;電壓 60kV。 X光管:陶瓷管;Cu靶。檢測器:正比充Xe氣計數器,最大計數率1,000,000cps。測角儀:...
衍射儀也稱X射線發生器、探測器X射線發生器,是進行X射線衍射實驗所不可缺少的、重要的設備之一,其優劣會嚴重影響X射線衍射數據的質量。進展 衍射儀的進展主要在三個方面:1、X射線發生器,2、探測器,3、衍射幾何與光路。x射線發生...
X射線晶體衍射分析儀是一種用於物理學、化學領域的分析儀器,於2011年8月31日啟用。技術指標 X射線晶體分析儀利用背射勞厄照相,底片安裝在晶體與射線源之間,而入射光束則在底片上的小孔通過,所記錄的為向後方向上的衍射光束,用衍射...
X射線光譜衍射儀是一種用於物理學、材料科學領域的物理性能測試儀器,於2014年08月01日啟用。技術指標 X射線是一種波長(0.06-20nm)很短的電磁波,能穿透一定厚度的物質,並能使螢光物質發光、照相機乳膠感光、氣體電離。主要功能 廣...
超高輝度X射線單晶衍射儀 超高輝度X射線單晶衍射儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2017年11月27日啟用。技術指標 轉靶X射線超高輝度光源,var:maxCa VHF,universal icaPDA ,HyPix 6000HE探測器。主要功能 高強度單晶衍射。
X射線CCD單晶衍射儀 X射線CCD單晶衍射儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2003年5月1日啟用。技術指標 晶體樣品尺寸0.1-0.5mm。主要功能 可收集單晶樣品的衍射數據。
單晶X射線衍射儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2016年7月1日啟用。技術指標 使用PILATUS200K全新平面探測器;測量時,可以連續掃描,不需要關閉快門,直到數據採集完成;不像傳統的IP或CCD需要不停開閉快門;無暗電流,無噪音,可以長...
D8X射線衍射儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2011年7月8日啟用。技術指標 1、掃描模式:廣角5°-160°,步進掃描; 2、X光管:銅靶(陶瓷外殼); 3、工作電流電壓:40KV、40mA; 4、測角儀器精度:0.0001°; 5、狹縫...
X射線微焦斑單晶衍射儀是一種用於生物學領域的分析儀器,於2012年11月23日啟用。技術指標 微焦斑銅靶,帶多層膜光學部件,功率50W,最大電流1mA,電壓50KV,kappa四原測角儀,角度解析度0mega,theta為0.0125度,CCD檢測器以及,...
CCD單晶X射線衍射儀是一種用於化學、藥學、材料科學、食品科學技術領域的分析儀器,於2009年1月12日啟用。技術指標 高功率(5.4KW)固定靶X射線發生器(鉬靶),檢測器為Saturn724+CCD面探測器。主要功能 無機、有機、金屬有機化合物...
單晶X-射線衍射儀是一種用於化學領域的分析儀器,於2006年10月30日啟用。技術指標 CCD探頭無束錐,1:1耦合,光學纖維長度僅1mm,映象面積62mm×62mm,4K CCD晶片,磷光膜可同時使用於Mo和Cu靶光源,Mo、Cu光源互換簡便。主要功能 單...
15-X射線衍射儀 15-X射線衍射儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2018年12月29日啟用。技術指標 X射線發生器最大輸出功率 3KW,最大管壓60kV,最大管流60mA,5軸樣品台。主要功能 薄膜電子材料的定性分析、取向分析。
X射線晶體衍射儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2006年3月8日啟用。技術指標 功率:3kW; 測角儀重現性:0.0001度;設備尺寸:1975×1132×1371mm(H×D×W)。主要功能 材料結構相關多方面的分析和多晶樣品的物相分析、晶粒尺寸...
X射線螢光衍射光譜儀是一種用於環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器,於2006年12月1日啟用。技術指標 上照式、波長色散掃描式螢光光譜儀,靶材及功率:Rh靶 4kW,可以對5B到92U進行快速定性、定量分析,元素的檢量範圍0.0001%~...
高解析度X射線衍射儀是一種用於數學領域的分析儀器,於2017年5月1日啟用。技術指標 直入射強度>10^7cps;2theta 和omega角的解析度>0.01°;G220單色器,選用Cu- Kα1特徵峰,波長0.15406nm;吸收片自動轉換;限寬狹縫手動切換...
雙微焦斑X射線單晶衍射儀是一種用於化學、工程與技術科學基礎學科、自然科學相關工程與技術、材料科學領域的分析儀器,於2017年6月15日啟用。技術指標 Helios nanolab 460HP。主要功能 精確測定無機物、有機物和金屬配合物等結晶物質的...
島津X射線衍射儀是一種用於材料科學、冶金工程技術領域的分析儀器,於2014年03月31日啟用。技術指標 運轉(1000°/min),精度角度(±0.0001°);。主要功能 精確測定物質的晶體結構,織構及應力,精確的進行物相分析,定性分析,定量...
大大縮短樣品的整體測量實驗時間。儀器測量精度可達到0.5%Å(大分子)、0.005%Å(小分子),高於通常X射線衍射儀器的測量精度。附屬檔案信息 冷卻系統、高壓設備、計算機控制等外圍設備。
單晶X射線衍射測量儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2008年1月3日啟用。技術指標 X光源:Mo陽極封閉靶光學系統:石墨單色器探測器:Mercury2CCD測角儀:AFC-Simplified固定2θ,固定X。主要功能 套用於小分子化合物單晶結構分析。以...
高分辨X射線衍射儀是一款帶有PC機控制隨機微處理器的X射線發生器。技術參數 帶有PC機控制隨機微處理器的超穩定X射線發生器 高亮玻璃和陶瓷X射線管,線上焦斑和點焦斑間快速更換 管罩的X-Y和可旋轉平台 bel鏡平行束光學器件 樣品空間...
X射線高分辨衍射儀是一種用於材料科學領域的分析儀器,於2007年1月15日啟用。技術指標 2Th準確度:最強峰位角度值與標準卡片值(35.153)之差0.01度;GM測試:最強峰值強度≥2.3E09cps,Si111樣品半高寬0.028度;四晶單色器測試:...
X射線衍射儀系統是一種用於化學、藥學、材料科學、環境科學技術及資源科學技術領域的分析儀器,於2012年12月15日啟用。技術指標 功率:3 kW 測角範圍(2θ):0.1 ~ 140°測角準確度Δ(2θc):0° 測角復現性(Sθd ):0....
X射線雙微焦斑單晶衍射儀是一種用於化學、材料科學、化學工程領域的分析儀器,於2015年3月18日啟用。技術指標 X射線發生器最大輸出功率:50W 解析度:Cu靶:0.837;Mo靶:0.80 X射線管保護:過電壓、過電流、冷卻水異常保護。主要...
雙光源單晶X射線衍射儀是一種用於物理學、材料科學領域的分析儀器,於2016年11月08日啟用。技術指標 (1)Mo/Cu雙微焦斑系統,可自動切換;(2)全新CMOS二維陣列探測器,檢測器面積10cm×14cm;(3)Kappa四圓測角儀,角度重現性±0....
四圓單晶X射線衍射儀是一種用於化學、材料科學領域的分析儀器,於2007年10月1日啟用。技術指標 小角度衍射,角度範圍:0-130度。主要功能 X 射線多晶衍射是利用不同構象和晶型的粉末固體對X射線有其特殊的 衍射方向和強度, 得到特徵...